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Nachfolgeprogramm

FP1-ESPRIT 1

Programmfinanzierung

EUR 40 million

Referenz zum Amtsblatt

L 376 von 1981-12-30

Rechtsrahmen

3744/81/EEC von 1981-12-07
Zur Förderung der Verbreitung und Entwicklung der Technologie der Mikroelektronik und ihrer Anwendungsmöglichkeiten, insbesondere in den Bereichen CAD für VLSI und Ausrüstung für die Fertigung und Prüfung von VLSI sowie zur Förderung einer ausgewogenen Markt- und Wettbewerbslage in Europa.

Kurzbeschreibung

Dieses Programm wurde eingerichtet, nachdem die Kommission, im Nachgang zum Beschluß des Rates vom 11. September 1979 über eine Gemeinschaftsmaßnahme zur Förderung der Mikroelektroniktechnologie (Amtsblatt Nr. C 231 vom 13.9.1979), die Möglichkeiten und Methoden der Koordinierung einzelstaatlicher Projekte im Mikroelektroniksektor untersucht hatte. Der Arbeitsplan für das Programm wurde auf der Basis von Studien ausgearbeitet, die während der Anfangsphase des Mehrjährigen Programms im Bereich Datenverarbeitung (MAP) durchgeführt wurden.

Nach Abschluß des Programms lieferten die einzelnen Projekte wichtige Eingabedaten für das Programm ESPRIT. Die unter der Bezeichnung CAVE (Computer Aided Design for VLSI in Europe) bekannten Workshops, die durch das Programm entstanden waren, wurden ebenfalls im Rahmen von ESPRIT fortgesetzt. Die von den teilnehmenden Unternehmen und akademischen Einrichtungen bei der Einleitung transnationaler Kooperation gemachten Erfahrungen hatten Auswirkungen, die über das Programm selbst weit hinausgingen. Es wurden sieben neue Unternehmen gegründet, um einige der sich aus den Projekten ableitende Ergebnisse zu nutzen.

Unterteilung

Zwei Bereiche:

- Ausrüstung für die Fertigung und Prüfung von VLSI (Very Large-Scale Integration circuitry; Schaltungen mit sehr hoher Integrationsdichte):
. Wafer-Stepper-Verfahren;
. Elektronenstrahlung zur Direktbeschriftung von Wafern;
. Plasmaätzung;
. Prüfgeräte/-anlagen;

- Computer aided design (CAD) für VLSI:
. Architektur;
. Sprache und Datenstruktur;
. Prüfung;
. Gerätemodellierung.

Ab 19.2.1983 wurden die Teilbereiche im Rahmen von Ausrüstung zur Fertigung und Prüfung von VLSI durch die Verordnung 397/83/EWG der Kommission wie folgt abgeändert:
. Geräte/Anlagen für hochentwickelte Lithographie;
. Geräte/Anlagen zur trockenen chemischen Bearbeitung und physikalischen Behandlung von Silizium und Werkstoffen der dritten und fünften Gruppe (von Verbindungshalbleitern);
. Geräte/Anlagen für Prüfung, Handling, Montage und Packung von integrierten Schaltungen.

Ausführung

Mit Hilfe eines Beratenden Ausschusses, der sich aus Vertretern der einzelnen Mitgliedstaaten zusammensetzte, war die Kommission für die Durchführung des Programms zuständig. Im Nachgang zu zwei Aufrufen zur Unterbreitung von Projektvorschlägen und ihrer nachfolgenden Bewertung wurden insgesamt 15 Projekte mit 95 Teilnehmern aus den Mitgliedstaaten genehmigt. Die finanzielle Unterstützung dieser Projekte durch die Gemeinschaft variierte von 30% bis 50% der Gesamtausgaben.

Vier jährliche Fortschrittsberichte wurden dem Europäischen Parlament und dem Rat von der Kommission vorgelegt. Ferner wurde eine endgültige Programmbeurteilung unterbreitet, die von einem unabhängigen, von der Kommission eingerichteten Team durchgeführt wurde. Infolge dieser Beurteilung und in Anbetracht der Tatsache, daß viele Teilnehmer 30% Förderungsmittel als unzureichend betrachteten, kam die Kommission zu dem Schluß, daß Differentialfinanzierung nicht angemessen ist und daß ein 50%iger Beitrag der Gemeinschaft für alle industriell orientierten FTE-Projekte im Vorwettbewerbsstadium die Norm sein sollte.
Datensatznummer: 165 / Zuletzt geändert am: 1990-10-01