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A new approach for plasma deposition : experimental and numerical investigation of expanding DC and microwave plasmas used in processing advanced materials

De 1994-02-01 à 1997-01-31

Détails concernant le projet

Coût total:

Non disponible

Contribution de l'UE:

Non disponible

Coordonné à/au(x)/en:

Netherlands

Sujet(s):

Régime de financement:

CSC - Cost-sharing contracts

Coordinateur

Technische Universiteit Eindhoven
Netherlands
2,Den Dolech
5600 MB Eindhoven
Netherlands
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Participants

Heinrich-Heine-Universität Düsseldorf
Germany
Universitätstraße 1
40225 Düsseldorf
Germany
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Indian Institute of Technology, New Delhi
India
110016 New Delhi
India
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