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Extreme ultra-violet (EUV) lithography using a laser plasma source and multilayer optics

Desde 1995-04-01 hasta 1997-03-31

Detalles del proyecto

Coste total:

No disponible

Aportación de la UE:

EUR 50 000

Coordinado en:

Netherlands

Objetivo

Información relacionada

Coordinador

Stichting voor Fundamenteel Onderzoek der Materie
Netherlands
Edisonbaan 14
3439 MN Nieuwegein
Netherlands
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Contacto administrativo: BIJKERK
Tel.: +31-30-6096999
Fax: +31-30-6031204

Participantes

European Synchrotron Radiation Facility
France
38043 Grenoble
France
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Contacto administrativo: BRANDEN
KING'S COLLEGE LONDON
United Kingdom
Strand
LONDON
United Kingdom
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Contacto administrativo: MICHETTE
Russian Academy of Sciences
Russia
117924 Moscow
Russia
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Contacto administrativo: SOBEL'MAN
Russian Academy of Sciences
Russia
194021 St. Petersburg
Russia
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Contacto administrativo: GORDEEV
Russian Academy of Sciences
Russia
142432 Chernogolovka, Moscow Region
Russia
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Contacto administrativo: ERKO
Russian Academy of Sciences
Russia
603600 Nizhny Novgorod
Russia
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Contacto administrativo: GAPONOV
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