Objectif This project undertakes broad co-operation to investigate amorphous and microcrystalline thin-film semiconductors and their device applications. Films of a-Si:H, (c-Si and Si related alloys will be deposited by plasma-enhanced chemical vapour deposition (PECVD) in diode and triode reactors. Plasma diagnostics and computer simulations will be applied for a better understanding and optimisation of the deposition process. The films will be broadly characterised by examining their structure, composition, optical and transport properties, defect structures and recombination mechanisms. Particular emphasis will be given to the stability of the material properties with respect to light exposure and carrier injection. Non-conventional deposition conditions will be used to improve the stability. The potential use of these semiconductors will be studied by preparing and investigating device structures such as Schottky barriers, pin-diodes and photodiodes. The combination of fundamental and applied research will be a particular feature of the project. Programme(s) IC-INTAS - International Association for the promotion of cooperation with scientists from the independent states of the former Soviet Union (INTAS), 1993- Thème(s) 15 - Condensed Matter Physics Appel à propositions Data not available Régime de financement Data not available Coordinateur Philipps-Universität Marburg Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Renthof 5 35032 Marburg Allemagne Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Participants (7) Trier par ordre alphabétique Trier par contribution de l’UE Tout développer Tout réduire Centre National de la Recherche Scientifique France Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse 91128 Palaiseau Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Katholieke Universiteit Leuven Belgique Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse 3001 Heverlee - Leuven Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Moscow State University M.V. Lomonosov Russie Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse 119899 Moscow Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Russian Academy of Sciences Russie Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse 194021 St. Petersburg Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Russian Academy of Sciences Russie Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse 194021 St. Petersburg Voir sur la carte Coût total Aucune donnée St. Petersburg State Technical University Russie Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse 195251 St. Petersburg Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Universität Gesamthochschule Siegen Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse 57068 Siegen Voir sur la carte Coût total Aucune donnée
