Wspólnotowy Serwis Informacyjny Badan i Rozwoju - CORDIS

FP5

ATOL

Project ID: IST-1999-20363
Źródło dofinansowania

Atomic layer chemical vapour deposition for copper dual damascene interconnects

Od 2000-10-01 do 2002-03-31 | ATOL Witryna

Dane projektu

Całkowity koszt:

EUR 5 321 741

Wkład UE:

EUR 2 415 010

Kraj koordynujący:

Belgium

System finansowania:

ACM - Preparatory, accompanying and support measures

Cel

Koordynator

INTERUNIVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM VZW
Belgium
KAPELDREEF 75
3001 LEUVEN
Belgium
See on map
Kontakt administracyjny: Gerald BEYER
Tel.: +32-16-281343
Faks: +32-16-281214
Adres e-mail

Uczestnicy

ASM INTERNATIONAL N.V.
Netherlands
JAN VAN EYCKLAAN 10
3723 BC BILTHOVEN
Netherlands
See on map
Kontakt administracyjny: Ivo RAAIJMAKERS
Tel.: +31-30-2298411
Faks: +31-30-2298533
Adres e-mail
INFINEON TECHNOLOGIES AG
Germany
ST. MARTIN STRASSE 53
81609 MUENCHEN
Germany
See on map
Kontakt administracyjny: Wolfgang ARDEN
Tel.: +49-89-23422463
Faks: +49-89-23424449
Adres e-mail
PHILIPS RESEARCH
Netherlands
PROFESSOR HOLSTLAAN 4 (WAG14)
5656 AA EINDHOVEN
Netherlands
Kontakt administracyjny: Mart GRAEF
Tel.: +31-40-2744600
Faks: +31-40-2743390
Adres e-mail
SONY CORPORATION
Japan
104G-7F, 1-14-1, ASAHI-CHO
243-0014 ASTUGI - KANAGAWA
Japan
Kontakt administracyjny: Takeshi NOGAMI
Tel.: +81-46-2305568
Faks: +81-46-2306556
Adres e-mail
Śledź nas na: RSS Facebook Twitter YouTube Zarządzany przez Urząd Publikacji UE W górę