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FP5

ALASCA 2

Project ID: IST-1999-10367
Finanziato nell'ambito di

Advanced lithography using ARF scanner 2

Dal 2000-01-01 al 2000-12-31 | ALASCA 2 Sito web

Dettagli del progetto

Costo totale:

EUR 7 866 360

Contributo UE:

EUR 2 665 970

Coordinato in:

Belgium

Meccanismo di finanziamento:

ACM - Preparatory, accompanying and support measures

Obiettivo

Coordinatore

INTERUNIVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM VZW
Belgium
KAPELDREEF 75
3001 LEUVEN
Belgium
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Contatto amministrativo: Kurt RONSE
Tel.: +16-28-1336
Fax: +16-28-1214
E-mail

Partecipanti

ASM LITHOGRAPHY B.V.
Netherlands
DE RUN 1110
5503 LA VELDHOVEN
Netherlands
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Contatto amministrativo: Erik CORDUWENER
CYPRESS SEMICONDUCTOR
United States
3901 N. FIRST STREET
95134 SAN JOSE
United States
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Contatto amministrativo: Nader SHAMMA
INFINEON TECHNOLOGIES AG
Germany
ST. MARTIN STRASSE 53
81609 MUENCHEN
Germany
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Contatto amministrativo: Margit SARSTEDT
INTEL CORPORATION
United States
MISSION COLLEGE BOULEVARD 2200
95052 SANTA CLARA CA
United States
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Contatto amministrativo: Graham PUGH
MICRON TECHNOLOGY INC.
United States
8000 SOUTH FEDERAL WAY
83707-0006 BOISE, IDAHO
United States
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Contatto amministrativo: Ardavan NIROOMAND
MOTOROLA INC.
United States
3501 ED BLUESTEIN BOULEVARD
78721 AUSTIN - TEXAS
United States
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Contatto amministrativo: Kevin LUCAS
PHILIPS SEMICONDUCTORS B.V.
Netherlands
PROFESSOR HOLSTLAAN 4
5656AA EINDHOVEN
Netherlands
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Contatto amministrativo: Jan Willem GEMMINK
SEMICONDUCTOR LEADING EDGE TECHNOLOGIES INC.
Japan
292 YOSHIDA-CHO, TOTSUKA-KU
244-0817 YOKOHAMA
Japan
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Contatto amministrativo: Toshiro ITANI
TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED
United States
FOREST LANE 8505
75266 DALLAS TX
United States
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Contatto amministrativo: John ILZHOEFER