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IMPROVED TARGET MATERIAL FOR HIGH-YIELD SPUTTERING DEPOSITION OF HIGH QUALITY ITO FILMS WITH LOW RESISTIVITY AND HIGH OPTICAL TRANSMISSION

Von 1993-01-01 bis 1995-12-31

Projektdetails

Gesamtkosten:

Nicht verfügbar

EU-Beitrag:

EUR 1 100 000

Koordiniert in:

France

Finanzierungsprogramm:

CSC - Cost-sharing contracts

Ziel

Koordinator

Métaleurop Recherche SA
France
1 avenue Albert Einstein
78193 Trappes
France
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Teilnehmer

DEGUSSA AG
Germany
RODENBACHER CHAUSSEE 4
6450 SIGURD HANAU
Germany
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LEYBOLD AG
Germany
SIEMENS STRAßE 100
8755 ALZENAU
Germany
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SAINT GOBAIN
France
39 QUAI LUCIEN LEFRANC
93303 AUBERVILLIERS
France
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