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FP5

ISCE-MOCVD

Project ID: G5RD-CT-2000-00216
Financiado con arreglo a

Online monitoring and in situ control of epitaxy metal organic chemical vapor deposition - isce-mocvd -

Desde 2000-02-01 hasta 2003-01-31

Detalles del proyecto

Coste total:

EUR 2 280 471

Aportación de la UE:

EUR 1 529 037

Coordinado en:

Germany

Objetivo

Coordinador

AIXTRON AG
Germany
Kackertstrasse 15-17
AACHEN
Germany
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Contacto administrativo: Holger JUERGENSEN

Participantes

IQE (EUROPE) LIMITED
United Kingdom
Cypress Drive, St Mellons
CF3 OEG Cardiff
United Kingdom
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Contacto administrativo: Drew NELSON
JOHANNES KEPLER UNIVERSITAET LINZ
Austria
Altenbergerstrasse 9, Halbleiterphysikgebaude
4040 LINZ
Austria
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Contacto administrativo: Günther BAUER
PANALYTICAL NV
Netherlands
Lelyweg, 1
7602 EA ALMELO
Netherlands
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Contacto administrativo: Johannes BETHKE
SENTECH INSTRUMENTS GMBH
Germany
Carl-Scheele-Strasse, 16
12489 BERLIN
Germany
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Contacto administrativo: Albrecht KRÜGER
TECHNISCHE UNIVERSITAET BERLIN
Germany
Hardenbergstrasse 36
106 43 BERLIN
Germany
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Contacto administrativo: Ulrike SCHMIDTBERG
Fax: +46-86-615719
THALES S.A.
France
Domaine de Corbeville
91404 ORSAY
France
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Contacto administrativo: Patrick DEVAUREIX
UNIVERSITAET - GESAMTHOCHSCHULE PADERBORN
Germany
Warburger Strasse 100
33098 PADERBORN
Germany
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Contacto administrativo: Klaus LISCHKA
UNIVERSITY MASARYK IN BRNO
Czech Republic
Zerotinovo Namesti 9
601 77 BRNO
Czech Republic
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Contacto administrativo: Jiri ZLATUSKA
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