Obiettivo This research proposal is about Extreme Ultra Violet Lithography (EUVL), the next generation technology chosen by the electronics industry to manufacture integrated circuits in 2010 and beyond. It represents an opportunity to boost the intensive efforts made by industry to reach new standards in lithography and achieve European leadership in the highly competitive sector of electronics manufacturing technology and know-how. The Integrated Project more Moore will involve various large and small manufacturing companies and research institutes or universities, all highly specialised in the key domains of EUVL and at the vanguard of European lithography research and development. Under the co-ordination of a leading European manufacturer of chip making equipment, the consortium constitutes a unique platform to integrate expertise in key branches of lithography, and to produce breakthrough technological solutions. The project will develop, ahead of the ITRS international roadmap (described in the main report), semiconductor devices shrunk by an order of magnitude down to the 5-nm size. The essential elements of the "More Moore" integrated research project can be summarised as follows:- More Moore will build upon and complement the work done in EUVL under National and EUREKA programmes, especially MEDEA+;- The research will push the limits of lithography to enable and exceed the requirements for the 22 nm node;- As an Integrated Project, it will extend the RandD network in this domain by including all capable institutes, universities and SME's. Campo scientifico natural sciencesphysical scienceselectromagnetism and electronicssemiconductivitysocial scienceslaw Parole chiave Nanotechnology Risk Assessment Programma(i) FP6-IST - Information Society Technologies: thematic priority under the specific programme "Integrating and strengthening the European research area" (2002-2006). Argomento(i) IST-2002-2.3.1.1 - Pushing the limits of CMOS, preparing for post-CMOS Invito a presentare proposte Data not available Meccanismo di finanziamento IP - Integrated Project Coordinatore ASML NETHERLANDS B.V. Contributo UE Nessun dato Indirizzo De Run 6501, 5504 DR 5500 AH Veldhoven Paesi Bassi Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato Partecipanti (24) Classifica in ordine alfabetico Classifica per Contributo UE Espandi tutto Riduci tutto ADVANCED MASK TECHNOLOGY CENTER GMBH AND CO. KG Germania Contributo UE Nessun dato Indirizzo Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato CARL ZEISS SMT AG Germania Contributo UE Nessun dato Indirizzo Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE Francia Contributo UE Nessun dato Indirizzo 17, rue des Martyrs (CEA-LETI) 38054 Grenoble Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE Francia Contributo UE Nessun dato Indirizzo 17 avenue des Martyrs 38054 Grenoble Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato ENTE PER LE NUOVE TECNOLOGIE, L'ENERGIA E L'AMBIENTE Italia Contributo UE Nessun dato Indirizzo Via Enrico Fermi 45 00044 Frascati Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato EPPRA SOCIETE PAR ACTIONS SIMPLIFIEE Francia Contributo UE Nessun dato Indirizzo 16 avenue du Québec 91961 Courtaboeuf Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato FOCUS GMBH GERAETE ZUR ELEKTRONENSPEKTROSKOPIE UND OBERFLAECHENANALYTIK Germania Contributo UE Nessun dato Indirizzo Am Birkhecker Berg 20 D-65510 Hünstetten Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato FRAUNHOFER GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. Germania Contributo UE Nessun dato Indirizzo Schottkystrasse 10 91058 Erlangen Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato IMAGINE OPTIC Francia Contributo UE Nessun dato Indirizzo Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato INSTITUTE OF SPECTROSCOPY OF RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCE Russia Contributo UE Nessun dato Indirizzo 142092 Troisk, Moscow region Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato INTERUNIVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM VZW Belgio Contributo UE Nessun dato Indirizzo Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato JOHANNES GUTENBERG-UNIVERSITAET MAINZ Germania Contributo UE Nessun dato Indirizzo Staudinger Weg 7 55099 Mainz Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato NATIONAL CENTRE FOR SCIENTIFIC RESEARCH "DEMOKRITOS" Grecia Contributo UE Nessun dato Indirizzo Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato NETHERLANDS ORGANISATION FOR APPLIED SCIENTIFIC RESEARCH - TNO Paesi Bassi Contributo UE Nessun dato Indirizzo Stieltjesweg 1 2628CK Delft Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato PHILIPS EXTREME UV GMBH Germania Contributo UE Nessun dato Indirizzo Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato PHYSTEX Paesi Bassi Contributo UE Nessun dato Indirizzo Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato SAGEM SA Francia Contributo UE Nessun dato Indirizzo Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato SIGMA-C GMBH SOFTWARE Germania Contributo UE Nessun dato Indirizzo Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato SINCROTRONE TRIESTE SOCIETA CONSORTILE PER AZIONI Italia Contributo UE Nessun dato Indirizzo Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato SOCIETE PAR ACTIONS SIMPLIFIEE XENOCS Francia Contributo UE Nessun dato Indirizzo Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato STICHTING VOOR FUNDAMENTEEL ONDERZOEK DER MATERIE Paesi Bassi Contributo UE Nessun dato Indirizzo Edisonbaan 14 3430 BE Nieuwegein Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato TECHNISCHE UNIVERSITEIT DELFT Paesi Bassi Contributo UE Nessun dato Indirizzo Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato UNIVERSITAET BIELEFELD Germania Contributo UE Nessun dato Indirizzo Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato XTREME TECHNOLOGIES GMBH Germania Contributo UE Nessun dato Indirizzo Hans-Böckler-Str. 27 37079 Göttingen Mostra sulla mappa Costo totale Nessun dato