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Beyond 0.3 micron Optical Lithography Development

De 1992-05-15 à 1995-05-14

Détails concernant le projet

Coût total:

Non disponible

Contribution de l'UE:

Non disponible

Coordonné à/au(x)/en:

Netherlands

Objectif

Coordinateur

ASM LITHOGRAPHY
Netherlands
MEIERIJWEG 15, 8805
5503 HN VELDHOVEN
Netherlands
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Contact administratif: Stefan WITTEKOEK
Tél.: +31-40-580310
Fax: +31-40-580709

Participants

CARL ZEISS GMBH
Germany
CARL-ZEISS-STRAßE 4-54
73447 OBERKOCHEN
Germany
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Contact administratif: Gerhard ITTNER
Tél.: +49-7364-202768
Fax: +49-7364-204509
Centre National d'Études des Télécommunications (CNET)
France
38-40 rue du Général Leclerc
92131 Issy-les-Moulineaux
France
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Contact administratif: Daniel HENRY
Tél.: +33-76764059
Fax: +33-76903443
Commissariat à l'Energie Atomique (CEA)
France
Centre d'Études de Grenoble 17 avenue des Martyrs
38041 Grenoble
France
Contact administratif: Jean-Charles GUIBERT
Tél.: +33-76883581
Fax: +33-76885183
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderungder Angewandten Forschung e.V.
Germany
Dillenburgerstrasse
14199 Berlin
Germany
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Contact administratif: Joachim PELKA
Tél.: +49-30-82998216
Fax: +49-30-82998199
E-mail
IBM Deutschland GmbH
Germany
Pascalstraße 100
70569 Stuttgart
Germany
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Contact administratif: Holger MORITZ
Tél.: +49-7031-126992
Fax: +49-7031-126282
INTERUNIVERSITAIR MIKROELEKTRONICA CENTRUM
Belgium
KAPELDREEF, 75
3030 HEVERLEE
Belgium
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Contact administratif: Luc VAN DEN HOVE
Tél.: +32-16-281323
Fax: +32-16-229400