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Abstract

THE THERMAL BEHAVIOUR OF A-C:H-FILMS (A - STANDS FOR AMORPHOUS -) DEPOSITED BY THE TEXTOR CARBONISATION TECHNIQUE ON MOLYBDENUM SUBSTRATES WAS INVESTIGATED IN HIGH POWER ELECTRON BEAM TESTING DEVICE FOR SINGLE AND MULTIPLE SHOT SEQUENCES. THE STATIONARY THERMAL BEHAVIOUR WAS ALSO MEASURED. THE RESULTS FOR SINGLE SHOT TESTING ARE PRESENTED IN A THRESHOLD DAMAGE DIAGRAM AND SHOW THAT THE STABILITY OF A-C:H-FILMS ON MOLYBDENUM IS SUPERIOR TO THAT ON STEEL. AT HIGHER OR REPEATED LOADINGS THE FILMS ARE CONVERTED GRADUALLY TO MOLYBDENUM-CARBIDE. AES AND SIMS DEPTH PROFILING WAS USED TO INVESTIGATE THE CONCENTRATION PROFILES AND INTERFACE COMPOSITIONS OF THE FILMS AFTER VARIOUS HEAT TREATMENTS. THEIR 1H THERMAL STABILITY ON MOLYBDENUM EXTENDS TO APPROXIMATELY 700 C IN A STATIONARY TEST. RESULTS SHOW THAT A-C:H-FILMS ON MOLYBDENUM SHOULD BE EFFECTIVE IN SHIELDING THE MOLYBDENUM SUBSTRATE FROM THE PLASMA IN A FUSION DEVICE AS LONG AS THE STATED LOADING LIMITS ARE NOT EXCEEDED.

Additional information

Authors: KAY E, METALLWERK PLANSEE GMBH, REUTTE, A;INST. FUER PLASMAPHYSIK, INSTITUT FUER GRENZFLACHENFORSCHUNG UND VAKUUM PHYSIK KERNFORSCHUNGSANLAGE JUELICH GMBH, D;TECHNISCHE UNIV., WIEN;WINTER J, METALLWERK PLANSEE GMBH, REUTTE, A;INST. FUER PLASMAPHYSIK, INSTITUT FUER GRENZFLACHENFORSCHUNG UND VAKUUM PHYSIK KERNFORSCHUNGSANLAGE JUELICH GMBH, D;TECHNISCHE UNIV., WIEN;WAELBFOECK F, METALLWERK PLANSEE GMBH, REUTTE, A;INST. FUER PLASMAPHYSIK, INSTITUT FUER GRENZFLACHENFORSCHUNG UND VAKUUM PHYSIK KERNFORSCHUNGSANLAGE JUELICH GMBH, D;TECHNISCHE UNIV., WIEN;LITTMARK V, METALLWERK PLANSEE GMBH, REUTTE, A;INST. FUER PLASMAPHYSIK, INSTITUT FUER GRENZFLACHENFORSCHUNG UND VAKUUM PHYSIK KERNFORSCHUNGSANLAGE JUELICH GMBH, D;TECHNISCHE UNIV., WIEN;FRIEDBACHER G, METALLWERK PLANSEE GMBH, REUTTE, A;INST. FUER PLASMAPHYSIK, INSTITUT FUER GRENZFLACHENFORSCHUNG UND VAKUUM PHYSIK KERNFORSCHUNGSANLAGE JUELICH GMBH, D;TECHNISCHE UNIV., WIEN;GRASSERBAUER M METALLWERK PLANSEE GMBH, REUTTE, A, METALLWERK PLANSEE GMBH, REUTTE, A;INST. FUER PLASMAPHYSIK, INSTITUT FUER GRENZFLACHENFORSCHUNG UND VAKUUM PHYSIK KERNFORSCHUNGSANLAGE JUELICH GMBH, D;TECHNISCHE UNIV., WIEN;INST. FUER PLASMAPHYSIK, INSTITUT FUER GRENZFLACHENFORSCHUNG UND VAKUUM PHYSIK KERNFORSCHUNGSANLAGE JUELICH GMBH, D, METALLWERK PLANSEE GMBH, REUTTE, A;INST. FUER PLASMAPHYSIK, INSTITUT FUER GRENZFLACHENFORSCHUNG UND VAKUUM PHYSIK KERNFORSCHUNGSANLAGE JUELICH GMBH, D;TECHNISCHE UNIV., WIEN;TECHNISCHE UNIV., WIEN, METALLWERK PLANSEE GMBH, REUTTE, A;INST. FUER PLASMAPHYSIK, INSTITUT FUER GRENZFLACHENFORSCHUNG UND VAKUUM PHYSIK KERNFORSCHUNGSANLAGE JUELICH GMBH, D;TECHNISCHE UNIV., WIEN
Bibliographic Reference: JOURNAL OF NUCLEAR MATERIALS, VOLS. 155-157, PP 273-277, 1988
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