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Kurzbeschreibung

In diesem Bericht wird die Mikrowellenreflektometrie auf den äußersten Plasmarand ausgedehnt, wo eine starke Elektronendichtefluktuation vorhanden ist. Es wurde eine sorgfältige Analyse der Störung der Profilmessung durch Elektronendichtefluktuationen, die starke Schwankungen bei der Intensität und Phase des reflektierten Signals zur Folge haben, durchgeführt. Durch eine Erhöhung der Frequenz der Interferenzstreifen auf Werte zwischen 800 kHz und 2,4 MHz ist es möglich, selbst bei sehr starken Fluktuationen zuverlässige Profilmessungen vorzunehmen. Messungen im dünnen Außenbereich sind nur unter Verwendung der X-Mode möglich, da die cut-off Frequenz dieser Mode im Gegensatz zu der der O-Mode bei n(e) neigt zu 0 einem endlichen Wert zustrebt. Um diesen Umstand auszunutzen, wird eine Methode zur Absoluteichung der Messung an der ersten Reflexion präsentiert, die unmittelbar vor den Mikrowellenantennen (1-4 mm von der Öffnung) auftritt, wodurch selbst im äußersten Plasmarand ein hoher Präzisionsgrad erreicht wird.

Zusätzliche Angaben

Autoren: SCHUBERT R, Max-Planck-Institut für Plasmaphysik, Garching bei München (DE)
Bibliografische Referenz: Report: IPP 4/249 DE (1991) 136 pp.
Verfügbarkeit: Available from Max-Planck-Institut für Plasmaphysik, 8046 Garching bei München (DE)
Datensatznummer: 199210172 / Zuletzt geändert am: 1994-12-02
Kategorie: publication
Originalsprache: de
Verfügbare Sprachen: de