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Affinage précis et aisé du silicium

Une technologie spatiale novatrice utilisant le micro-usinage de circuits intégrés permet de modeler en 3D et d'affiner le silicium jusqu'à une épaisseur de 80 µm.
Affinage précis et aisé du silicium
Les méthodes traditionnelles d'affinage du silicium font généralement appel à des techniques chimiques ou au plasma qui sont susceptibles d'affecter la fonctionnalité des appareils en raison de la contamination potentielle des emballages en plastique. Un laboratoire français a mis au point une nouvelle technologie qui, contrairement à ces techniques, utilise l'approche de l'usinage 3D.

Au départ, le silicium affiche une épaisseur constante de 350 µm et, grâce à une contrainte thermomécanique, le silicium plat aboutit à une forme en perspective de 80 µm. L'approche 3D adoptée conduit à une forme en perspective de 80 µm à la fin du processus, tout en offrant une épaisseur de silicium constante.

L'usinage 3D se caractérise par une plus grande précision dans la mesure où la forme 3D est totalement contrôlable pendant le fonctionnement du circuit. En outre, sa mise en œuvre est extrêmement économique, dans la mesure où elle fait uniquement appel à un outil de micro-usinage et de détection/mesure, ainsi qu'à un minimum de logiciels.

La technique a essentiellement été conçue et utilisée pour des applications spatiales. En dehors du silicium, la technologie de micro-usinage pourrait également être exploitée avec d'autres matériaux, tels le verre, pour modeler de fines lentilles, par exemple. De manière plus spécifique, elle pourrait trouver des applications utiles dans le domaine de la micro-optique, où des appareils optiques hautement spécifiques sont requis.

Des partenaires travaillant dans le domaine de la qualification de circuits intégrés destinés à des applications spatiales, de défense et de micro-optique sont recherchés en vue d'une collaboration. Avant sa commercialisation, la technologie novatrice est mise à la disposition des personnes intéressées pour évaluation de sa simplicité d'utilisation et de la qualité des résultats obtenus.
Numéro d'enregistrement: 82161 / Dernière mise à jour le: 2005-09-18
Domaine: Technologies industrielles