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Large area interferometric imager for highly sensitive inspection of materials

Projektbeschreibung

Neuartige Lichtinterferenz macht sich die Stärke der Vielfalt zunutze

Der Begriff der „Interferenz“ ist in der Regel mit negativen Assoziationen verbunden. Jedoch können Interferenzmuster von großem Wert sein, beispielsweise wenn sie durch die Überlagerung von zwei oder mehr Arten von Wellen aus dem elektromagnetischen Spektrum entstehen. Interferometer machen sich dieses Prinzip zunutze. Sie werden in vielen Bereichen der Wissenschaft und Technik eingesetzt, wenn die Zusammensetzung von Materialien genauer untersucht werden soll. Im Rahmen des EU-finanzierten Projekts LIM wird ein fortschrittlicher interferometrischer Bildsensor für große Flächen auf den Markt gebracht. Da er in der Lage ist, Materialproben bis auf wenige Atomlagen genau zu charakterisieren und möglicherweise in einem kompakten Format realisiert werden kann, besitzt er das Potenzial, die integrierten Testsysteme in kritischen Bereichen wie Halbleiter und Photonik zu revolutionieren.

Ziel

The proposed project aims at applying and exploiting a novel type of imaging technology, a large area interferometric imager (LIM), which was largely developed within the FET project Q-MIC. More specifically, we will analyse customer-relevant samples, evaluate the performance of prototypes in industrial environments and potentially adapt them to specific needs, and finally perform full market assessment and commercialization plan for the proposed technology. This in close collaboration with companies, which have already shown interest in using the technology as measurement, inspection tool or integrating it into their existing imaging systems. The LIM allows imaging of large sample areas and volumes with unprecedented sensitivities (a few atomic layers of material). Thanks to a close reference scheme, the technology is inherently very robust while also offering the possibility of compacting it in a small form factor. All these features are attractive for material analysis and in-line inspection, essential in the high-tech semiconductor, glass, photonic, and display industries.

Aufforderung zur Vorschlagseinreichung

H2020-FETOPEN-2018-2020

Andere Projekte für diesen Aufruf anzeigen

Unterauftrag

H2020-FETOPEN-2018-2019-2020-4

Koordinator

FUNDACIO INSTITUT DE CIENCIES FOTONIQUES
Netto-EU-Beitrag
€ 100 000,00
Adresse
AVINGUDA CARL FRIEDRICH GAUSS 3
08860 Castelldefels
Spanien

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Region
Este Cataluña Barcelona
Aktivitätstyp
Research Organisations
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Gesamtkosten
Keine Daten