Trio-optimally integrated vacuum/abatement/monitoring equipment for demanding semiconductor manufacturing processes

Informations projet

TRIO-VAMP

N° de convention de subvention: FP4_24032

Projet clôturé

Date de début 1 Decembre 1996

Date de fin 30 Novembre 1997

Financé au titre de

• Specific research and technological development programme in the field of information technologies, 1994-1998

Coût total € 360 000,00

Contribution de l’UE € 180 000,00

Coordonné par

Texas Instruments Deutschland Gmbh
Germany

Champ scientifique

• engineering and technology › mechanical engineering › manufacturing engineering
• natural sciences › physical sciences › electromagnetism and electronics › semiconductivity

Programme(s)

• FP4-ESPRIT 4 - Specific research and technological development programme in the field of information technologies, 1994-1998

Thème(s)

• 2.9 - Building blocks, methods & tools for semiconductor app&techs

Appel à propositions

Data not available

Régime de financement

EIF - Marie Curie actions-Intra-European Fellowships

Coordinateur

Texas Instruments Deutschland Gmbh

• Contribution de l’UE: Aucune donnée
• Adresse: Haggertystrasse 1 ; 85356 Freising ; Allemagne
• Coût total: Aucune donnée