Computer modelling and experimental validation of plasmas and plasma- surface interactions, for a deep insight in cryogenic etching

Projektinformationen

Cryoetch

ID Finanzhilfevereinbarung: 702604

DOI 10.3030/702604

Projekt abgeschlossen

EK-Unterschriftsdatum 14 März 2016

Startdatum 8 Juni 2016

Enddatum 7 Juni 2018

Finanziert unter

• EXCELLENT SCIENCE - Marie Skłodowska-Curie Actions

Gesamtkosten € 160 800,00

EU-Beitrag € 160 800,00

Koordiniert durch

UNIVERSITEIT ANTWERPEN
Belgium

Veröffentlichungen

Peer reviewed articles (3)

Propagation of a plasma streamer in catalyst pores

Autoren: Quan-Zhi Zhang, Annemie Bogaerts
Veröffentlicht in: Plasma Sources Science and Technology, Ausgabe 27/3, 2018, Seite(n) 035009, ISSN 1361-6595
Herausgeber: IOP Publishing Ltd
DOI: 10.1088/1361-6595/aab47a

Mechanisms for plasma cryogenic etching of porous materials

Autoren: Quan-Zhi Zhang, Stefan Tinck, Jean-François de Marneffe, Liping Zhang, Annemie Bogaerts
Veröffentlicht in: Applied Physics Letters, Ausgabe 111/17, 2017, Seite(n) 173104, ISSN 0003-6951
Herausgeber: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.4999439

Importance of surface charging during plasma streamer propagation in catalyst pores

Autoren: Quan-Zhi Zhang, Wei-Zong Wang, Annemie Bogaerts
Veröffentlicht in: Plasma Sources Science and Technology, Ausgabe 27/6, 2018, Seite(n) 065009, ISSN 1361-6595
Herausgeber: IOP Publishing Ltd
DOI: 10.1088/1361-6595/aaca6d