Computer modelling and experimental validation of plasmas and plasma- surface interactions, for a deep insight in cryogenic etching

Informacje na temat projektu

Cryoetch

Identyfikator umowy o grant: 702604

DOI 10.3030/702604

Projekt został zamknięty

Data podpisania przez KE 14 Marca 2016

Data rozpoczęcia 8 Czerwca 2016

Data zakończenia 7 Czerwca 2018

Finansowanie w ramach

• EXCELLENT SCIENCE - Marie Skłodowska-Curie Actions

Koszt całkowity € 160 800,00

Wkład UE € 160 800,00

Koordynowany przez

UNIVERSITEIT ANTWERPEN
Belgium

Publikacje

Peer reviewed articles (3)

Propagation of a plasma streamer in catalyst pores

Autorzy: Quan-Zhi Zhang, Annemie Bogaerts
Opublikowane w: Plasma Sources Science and Technology, Numer 27/3, 2018, Strona(/y) 035009, ISSN 1361-6595
Wydawca: IOP Publishing Ltd
DOI: 10.1088/1361-6595/aab47a

Mechanisms for plasma cryogenic etching of porous materials

Autorzy: Quan-Zhi Zhang, Stefan Tinck, Jean-François de Marneffe, Liping Zhang, Annemie Bogaerts
Opublikowane w: Applied Physics Letters, Numer 111/17, 2017, Strona(/y) 173104, ISSN 0003-6951
Wydawca: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.4999439

Importance of surface charging during plasma streamer propagation in catalyst pores

Autorzy: Quan-Zhi Zhang, Wei-Zong Wang, Annemie Bogaerts
Opublikowane w: Plasma Sources Science and Technology, Numer 27/6, 2018, Strona(/y) 065009, ISSN 1361-6595
Wydawca: IOP Publishing Ltd
DOI: 10.1088/1361-6595/aaca6d