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A new approach for plasma deposition : experimental and numerical investigation of expanding DC and microwave plasmas used in processing advanced materials

Desde 1994-02-01 hasta 1997-01-31

Detalles del proyecto

Coste total:

No disponible

Aportación de la UE:

No disponible

Coordinado en:

Netherlands

Tema(s):

Régimen de financiación:

CSC - Cost-sharing contracts

Coordinador

Technische Universiteit Eindhoven
Netherlands
2,Den Dolech
5600 MB Eindhoven
Netherlands
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Contacto administrativo: N/A

Participantes

Heinrich-Heine-Universität Düsseldorf
Germany
Universitätstraße 1
40225 Düsseldorf
Germany
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Contacto administrativo: N/A
Indian Institute of Technology, New Delhi
India
110016 New Delhi
India
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Contacto administrativo: N/A
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