A new approach for plasma deposition : experimental and numerical investigation of expanding DC and microwave plasmas used in processing advanced materials
Project ID: CI1*930089Financiado con arreglo a:
A new approach for plasma deposition : experimental and numerical investigation of expanding DC and microwave plasmas used in processing advanced materials
Desde 1994-02-01
hasta 1997-01-31
Detalles del proyecto
Coste total:
No disponibleAportación de la UE:
No disponibleCoordinado en:
NetherlandsTema(s):
Régimen de financiación:
CSC - Cost-sharing contractsCoordinador
Technische Universiteit Eindhoven
Netherlands
Participantes
Heinrich-Heine-Universität Düsseldorf
Germany
Indian Institute of Technology, New Delhi
India
