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Single wafer highly n+ and p+ doped amorphous and poly silicon deposition

Von 1995-12-01 bis 1997-02-28

Projektdetails

Gesamtkosten:

EUR 2 920 000

EU-Beitrag:

EUR 1 460 000

Koordiniert in:

France

Finanzierungsprogramm:

ACM - Preparatory, accompanying and support measures

Ziel

Koordinator

Grenoble Submicron Silicon
France
Avenue Des Martyrs 17
38054 Grenoble 9
France
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Administrative Kontaktangaben: Jean-Paul KLEIN
Tel.: +33-476764109
Fax: +33-476903443
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