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Single wafer highly n+ and p+ doped amorphous and poly silicon deposition

De 1995-12-01 à 1997-02-28

Détails concernant le projet

Coût total:

EUR 2 920 000

Contribution de l'UE:

EUR 1 460 000

Coordonné à/au(x)/en:

France

Régime de financement:

ACM - Preparatory, accompanying and support measures

Objectif

Coordinateur

Grenoble Submicron Silicon
France
Avenue Des Martyrs 17
38054 Grenoble 9
France
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Contact administratif: Jean-Paul KLEIN
Tél.: +33-476764109
Fax: +33-476903443