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Extreme ultra-violet (EUV) lithography using a laser plasma source and multilayer optics

Dal 1995-04-01 al 1997-03-31

Dettagli del progetto

Costo totale:

Non disponibile

Contributo UE:

EUR 50 000

Coordinato in:

Netherlands

Obiettivo

Informazioni correlate

Coordinatore

Stichting voor Fundamenteel Onderzoek der Materie
Netherlands
Edisonbaan 14
3439 MN Nieuwegein
Netherlands
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Contatto amministrativo: BIJKERK
Tel.: +31-30-6096999
Fax: +31-30-6031204

Partecipanti

European Synchrotron Radiation Facility
France
38043 Grenoble
France
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Contatto amministrativo: BRANDEN
KING'S COLLEGE LONDON
United Kingdom
Strand
LONDON
United Kingdom
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Contatto amministrativo: MICHETTE
Russian Academy of Sciences
Russia
117924 Moscow
Russia
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Contatto amministrativo: SOBEL'MAN
Russian Academy of Sciences
Russia
194021 St. Petersburg
Russia
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Contatto amministrativo: GORDEEV
Russian Academy of Sciences
Russia
142432 Chernogolovka, Moscow Region
Russia
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Contatto amministrativo: ERKO
Russian Academy of Sciences
Russia
603600 Nizhny Novgorod
Russia
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Contatto amministrativo: GAPONOV