Cel This project undertakes broad co-operation to investigate amorphous and microcrystalline thin-film semiconductors and their device applications. Films of a-Si:H, (c-Si and Si related alloys will be deposited by plasma-enhanced chemical vapour deposition (PECVD) in diode and triode reactors. Plasma diagnostics and computer simulations will be applied for a better understanding and optimisation of the deposition process. The films will be broadly characterised by examining their structure, composition, optical and transport properties, defect structures and recombination mechanisms. Particular emphasis will be given to the stability of the material properties with respect to light exposure and carrier injection. Non-conventional deposition conditions will be used to improve the stability. The potential use of these semiconductors will be studied by preparing and investigating device structures such as Schottky barriers, pin-diodes and photodiodes. The combination of fundamental and applied research will be a particular feature of the project. Program(-y) IC-INTAS - International Association for the promotion of cooperation with scientists from the independent states of the former Soviet Union (INTAS), 1993- Temat(-y) 15 - Condensed Matter Physics Zaproszenie do składania wniosków Data not available System finansowania Data not available Koordynator Philipps-Universität Marburg Wkład UE Brak danych Adres Renthof 5 35032 Marburg Niemcy Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych Uczestnicy (7) Sortuj alfabetycznie Sortuj według wkładu UE Rozwiń wszystko Zwiń wszystko Centre National de la Recherche Scientifique Francja Wkład UE Brak danych Adres 91128 Palaiseau Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych Katholieke Universiteit Leuven Belgia Wkład UE Brak danych Adres 3001 Heverlee - Leuven Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych Moscow State University M.V. Lomonosov Rosja Wkład UE Brak danych Adres 119899 Moscow Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych Russian Academy of Sciences Rosja Wkład UE Brak danych Adres 194021 St. Petersburg Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych Russian Academy of Sciences Rosja Wkład UE Brak danych Adres 194021 St. Petersburg Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych St. Petersburg State Technical University Rosja Wkład UE Brak danych Adres 195251 St. Petersburg Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych Universität Gesamthochschule Siegen Niemcy Wkład UE Brak danych Adres 57068 Siegen Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych
