Objetivo This project studies the interface of amorphous or microcrystalline silicon thin film with single crystalline silicon substrates. Different pre-deposition, deposition and post-deposition technologies are used together with many physico-chemical and electrical characterization techniques. The purpose is to optimize the process parameters from the feedback data of the different analyses in order to obtain non-crystalline or epitaxially structured thin layers for microelectronic applications. Ámbito científico engineering and technologymaterials engineeringcoating and filmsnatural scienceschemical sciencesinorganic chemistrymetalloids Programa(s) FP2-SCIENCE - Programme plan (EEC) to stimulate the international cooperation and interchange needed by European research scientists (SCIENCE), 1988-1992 Tema(s) Data not available Convocatoria de propuestas Data not available Régimen de financiación CSC - Cost-sharing contracts Coordinador INTERUNIVERSITAIR MIKRO-ELEKTRONICA CENTRUM VZW Aportación de la UE Sin datos Dirección 75,Kapeldreef 75 3001 HEVERLEE Bélgica Ver en el mapa Coste total Sin datos Participantes (2) Ordenar alfabéticamente Ordenar por aportación de la UE Ampliar todo Contraer todo EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY Países Bajos Aportación de la UE Sin datos Dirección Den Dolech 2 5600 MB EINDHOVEN Ver en el mapa Coste total Sin datos UNIVERSITAET STUTTGART Alemania Aportación de la UE Sin datos Dirección Keplerstrasse 7 70174 STUTTGART Ver en el mapa Coste total Sin datos