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Lithography to Cross the One-Tenth of a micron Resolution Node using ArF System Technology

De 2000-01-01 à 2001-12-31

Détails concernant le projet

Coût total:

EUR 6 000 000

Contribution de l'UE:

EUR 3 000 000

Coordonné à/au(x)/en:

Netherlands

Régime de financement:

CSC - Cost-sharing contracts

Objectif

Coordinateur

ASM LITHOGRAPHY B.V.
Netherlands
DE RUN 1110
5503 LA VELDHOVEN
Netherlands
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Contact administratif: Judon STOELDRAIJER
Tél.: +31-40-2303336
Fax: +31-40-2304550

Participants

CARL ZEISS
Germany
73446 OBERKOCHEN
Germany
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Contact administratif: Rainer BOERRET
Tél.: +73-64-204060
Fax: +73-64-204509
E-mail
HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO KG
Germany
QUARZSTRASSE
63450 HANAU
Germany
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Contact administratif: Bruno UEBBING
Tél.: +61-81-367435
Fax: +61-81-367448
E-mail
HONEYWELL SPECIALTY CHEMICALS SEELZE GMBH
Germany
WUNSTORFERSTRASSE 40
30926 SEELZE
Germany
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Contact administratif: Thomas SCHOLTEN
Tél.: +51-37-999317
Fax: +51-37-999827
E-mail
LAMBDA PHYSIK AG
Germany
HANS-BOECKLER-STRASSE 12
37073 GOETTINGEN
Germany
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Contact administratif: Uwe STAMM
Tél.: +55-16-938201
Fax: +55-16-8691
E-mail
SCHOTT LITHOTEC AG
Germany
OTTO-SCHOTT-STRASSE 13
07745 JENA
Germany
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Contact administratif: Ewald MOERSEN
Tél.: +61-31-8012614
Fax: +61-31-8012626
E-mail