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Advanced Photomask Resist Processing

Von 2001-07-01 bis 2002-08-31

Projektdetails

Gesamtkosten:

EUR 2 498 996

EU-Beitrag:

EUR 2 021 145

Koordiniert in:

Germany

Finanzierungsprogramm:

ACM - Preparatory, accompanying and support measures

Ziel

Koordinator

INSTITUT FUER MIKROELEKTRONIK STUTTGART
Germany
ALLMANDRING 30 A+C
70569 STUTTGART
Germany
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Administrative Kontaktangaben: Mathias IRMSCHER
Tel.: +49-71-16855779
Fax: +49-71-16855930
E-Mail-Adresse

Teilnehmer

INFINEON TECHNOLOGIES AG
Germany
ST. MARTIN STRASSE 53
81609 MUENCHEN
Germany
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Administrative Kontaktangaben: Inge VERMEIR
Tel.: +49-89-23421450
Fax: +49-89-23428038
E-Mail-Adresse
LEICA MICROSYSTEMS LITHOGRAPHY GMBH
Germany
GOESCHWITZER STRASSE 42
07745 JENA
Germany
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Administrative Kontaktangaben: Peter HUDEK
Tel.: +49-36-41651969
Fax: +49-36-41651922
E-Mail-Adresse
PHOTRONICS (UK) LTD.
United Kingdom
TRAFFORD WHARF ROAD, TRAFFORD PARK
M17 1PE MANCHESTER
United Kingdom
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Administrative Kontaktangaben: Jeff BROWNE
Tel.: +44-16-19304815
Fax: +44-16-19304852
E-Mail-Adresse
SCHOTT LITHOTEC AG
Germany
OTTO-SCHOTT-STRASSE 13
07745 JENA
Germany
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Administrative Kontaktangaben: Ute BUTTGEREIT
Tel.: +49-36-93522274
Fax: +49-36-93522101
E-Mail-Adresse
STEAG HAMATECH AG
Germany
FERDINAND-VON-STEIBEIS-RING 10
75447 STERNENFELS
Germany
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Administrative Kontaktangaben: Jakob SZEKERESCH
Tel.: +49-70-4541231
Fax: +49-70-4541239
E-Mail-Adresse
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