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Advanced Photomask Resist Processing

De 2001-07-01 à 2002-08-31

Détails concernant le projet

Coût total:

EUR 2 498 996

Contribution de l'UE:

EUR 2 021 145

Coordonné à/au(x)/en:

Germany

Régime de financement:

ACM - Preparatory, accompanying and support measures

Objectif

Coordinateur

INSTITUT FUER MIKROELEKTRONIK STUTTGART
Germany
ALLMANDRING 30 A+C
70569 STUTTGART
Germany
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Contact administratif: Mathias IRMSCHER
Tél.: +49-71-16855779
Fax: +49-71-16855930
E-mail

Participants

INFINEON TECHNOLOGIES AG
Germany
ST. MARTIN STRASSE 53
81609 MUENCHEN
Germany
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Contact administratif: Inge VERMEIR
Tél.: +49-89-23421450
Fax: +49-89-23428038
E-mail
LEICA MICROSYSTEMS LITHOGRAPHY GMBH
Germany
GOESCHWITZER STRASSE 42
07745 JENA
Germany
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Contact administratif: Peter HUDEK
Tél.: +49-36-41651969
Fax: +49-36-41651922
E-mail
PHOTRONICS (UK) LTD.
United Kingdom
TRAFFORD WHARF ROAD, TRAFFORD PARK
M17 1PE MANCHESTER
United Kingdom
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Contact administratif: Jeff BROWNE
Tél.: +44-16-19304815
Fax: +44-16-19304852
E-mail
SCHOTT LITHOTEC AG
Germany
OTTO-SCHOTT-STRASSE 13
07745 JENA
Germany
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Contact administratif: Ute BUTTGEREIT
Tél.: +49-36-93522274
Fax: +49-36-93522101
E-mail
STEAG HAMATECH AG
Germany
FERDINAND-VON-STEIBEIS-RING 10
75447 STERNENFELS
Germany
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Contact administratif: Jakob SZEKERESCH
Tél.: +49-70-4541231
Fax: +49-70-4541239
E-mail