Cel This research proposal is about Extreme Ultra Violet Lithography (EUVL), the next generation technology chosen by the electronics industry to manufacture integrated circuits in 2010 and beyond. It represents an opportunity to boost the intensive efforts made by industry to reach new standards in lithography and achieve European leadership in the highly competitive sector of electronics manufacturing technology and know-how. The Integrated Project more Moore will involve various large and small manufacturing companies and research institutes or universities, all highly specialised in the key domains of EUVL and at the vanguard of European lithography research and development. Under the co-ordination of a leading European manufacturer of chip making equipment, the consortium constitutes a unique platform to integrate expertise in key branches of lithography, and to produce breakthrough technological solutions. The project will develop, ahead of the ITRS international roadmap (described in the main report), semiconductor devices shrunk by an order of magnitude down to the 5-nm size. The essential elements of the "More Moore" integrated research project can be summarised as follows:- More Moore will build upon and complement the work done in EUVL under National and EUREKA programmes, especially MEDEA+;- The research will push the limits of lithography to enable and exceed the requirements for the 22 nm node;- As an Integrated Project, it will extend the RandD network in this domain by including all capable institutes, universities and SME's. Dziedzina nauki natural sciencesphysical scienceselectromagnetism and electronicssemiconductivitysocial scienceslaw Słowa kluczowe Nanotechnology Risk Assessment Program(-y) FP6-IST - Information Society Technologies: thematic priority under the specific programme "Integrating and strengthening the European research area" (2002-2006). Temat(-y) IST-2002-2.3.1.1 - Pushing the limits of CMOS, preparing for post-CMOS Zaproszenie do składania wniosków Data not available System finansowania IP - Integrated Project Koordynator ASML NETHERLANDS B.V. Wkład UE Brak danych Adres De Run 6501, 5504 DR 5500 AH Veldhoven Niderlandy Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych Uczestnicy (24) Sortuj alfabetycznie Sortuj według wkładu UE Rozwiń wszystko Zwiń wszystko ADVANCED MASK TECHNOLOGY CENTER GMBH AND CO. KG Niemcy Wkład UE Brak danych Adres Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych CARL ZEISS SMT AG Niemcy Wkład UE Brak danych Adres Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE Francja Wkład UE Brak danych Adres 17, rue des Martyrs (CEA-LETI) 38054 Grenoble Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE Francja Wkład UE Brak danych Adres 17 avenue des Martyrs 38054 Grenoble Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych ENTE PER LE NUOVE TECNOLOGIE, L'ENERGIA E L'AMBIENTE Włochy Wkład UE Brak danych Adres Via Enrico Fermi 45 00044 Frascati Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych EPPRA SOCIETE PAR ACTIONS SIMPLIFIEE Francja Wkład UE Brak danych Adres 16 avenue du Québec 91961 Courtaboeuf Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych FOCUS GMBH GERAETE ZUR ELEKTRONENSPEKTROSKOPIE UND OBERFLAECHENANALYTIK Niemcy Wkład UE Brak danych Adres Am Birkhecker Berg 20 D-65510 Hünstetten Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych FRAUNHOFER GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. Niemcy Wkład UE Brak danych Adres Schottkystrasse 10 91058 Erlangen Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych IMAGINE OPTIC Francja Wkład UE Brak danych Adres Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych INSTITUTE OF SPECTROSCOPY OF RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCE Rosja Wkład UE Brak danych Adres 142092 Troisk, Moscow region Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych INTERUNIVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM VZW Belgia Wkład UE Brak danych Adres Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych JOHANNES GUTENBERG-UNIVERSITAET MAINZ Niemcy Wkład UE Brak danych Adres Staudinger Weg 7 55099 Mainz Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych NATIONAL CENTRE FOR SCIENTIFIC RESEARCH "DEMOKRITOS" Grecja Wkład UE Brak danych Adres Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych NETHERLANDS ORGANISATION FOR APPLIED SCIENTIFIC RESEARCH - TNO Niderlandy Wkład UE Brak danych Adres Stieltjesweg 1 2628CK Delft Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych PHILIPS EXTREME UV GMBH Niemcy Wkład UE Brak danych Adres Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych PHYSTEX Niderlandy Wkład UE Brak danych Adres Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych SAGEM SA Francja Wkład UE Brak danych Adres Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych SIGMA-C GMBH SOFTWARE Niemcy Wkład UE Brak danych Adres Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych SINCROTRONE TRIESTE SOCIETA CONSORTILE PER AZIONI Włochy Wkład UE Brak danych Adres Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych SOCIETE PAR ACTIONS SIMPLIFIEE XENOCS Francja Wkład UE Brak danych Adres Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych STICHTING VOOR FUNDAMENTEEL ONDERZOEK DER MATERIE Niderlandy Wkład UE Brak danych Adres Edisonbaan 14 3430 BE Nieuwegein Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych TECHNISCHE UNIVERSITEIT DELFT Niderlandy Wkład UE Brak danych Adres Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych UNIVERSITAET BIELEFELD Niemcy Wkład UE Brak danych Adres Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych XTREME TECHNOLOGIES GMBH Niemcy Wkład UE Brak danych Adres Hans-Böckler-Str. 27 37079 Göttingen Zobacz na mapie Koszt całkowity Brak danych
