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High-Resolution Plasma Etching in Semiconductor Technology : Fundamentals, Processing and Equipment

De 1985-01-01 à 1989-01-01

Détails concernant le projet

Coût total:

Non disponible

Contribution de l'UE:

Non disponible

Coordonné à/au(x)/en:

Germany

Objectif

Coordinateur

Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderungder Angewandten Forschung e.V.
Germany
Dillenburgerstrasse
14199 Berlin
Germany
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Contact administratif: Hella SCHEER
Tél.: +49-30-82998111
Fax: +49-30-82998199

Participants

Johnson Matthey plc
United Kingdom
Orchard Road
SG8 5HE Royston
United Kingdom
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Contact administratif: WEBSTER
Tél.: +44-763-44161
Fax: +44-763-45014
LEYBOLD HERAEUS GMBH
Germany
SIEMENSSTRASSE 100
8755 ALZENAU
Germany
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Mono Light Instruments Ltd
United Kingdom
2-3 Waterside
KT15 2SN Weybridge
United Kingdom
Contact administratif: ANGUS
Tél.: +44-932-858566
Fax: +44-932-42959
United Kingdom Atomic Energy Authority (UKAEA)
United Kingdom
Harwell Laboratory
OX11 0RA Didcot
United Kingdom
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Contact administratif: SMAILES
Tél.: +44-235-24141
Fax: +44-235-832591