Wspólnotowy Serwis Informacyjny Badan i Rozwoju - CORDIS

High-Resolution Plasma Etching in Semiconductor Technology : Fundamentals, Processing and Equipment

Od 1985-01-01 do 1989-01-01

Dane projektu

Całkowity koszt:

Niedostępne

Wkład UE:

Niedostępne

Kraj koordynujący:

Germany

Cel

Koordynator

Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderungder Angewandten Forschung e.V.
Germany
Dillenburgerstrasse
14199 Berlin
Germany
See on map
Kontakt administracyjny: Hella SCHEER
Tel.: +49-30-82998111
Faks: +49-30-82998199

Uczestnicy

Johnson Matthey plc
United Kingdom
Orchard Road
SG8 5HE Royston
United Kingdom
See on map
Kontakt administracyjny: WEBSTER
Tel.: +44-763-44161
Faks: +44-763-45014
LEYBOLD HERAEUS GMBH
Germany
SIEMENSSTRASSE 100
8755 ALZENAU
Germany
See on map
Mono Light Instruments Ltd
United Kingdom
2-3 Waterside
KT15 2SN Weybridge
United Kingdom
Kontakt administracyjny: ANGUS
Tel.: +44-932-858566
Faks: +44-932-42959
United Kingdom Atomic Energy Authority (UKAEA)
United Kingdom
Harwell Laboratory
OX11 0RA Didcot
United Kingdom
See on map
Kontakt administracyjny: SMAILES
Tel.: +44-235-24141
Faks: +44-235-832591
Śledź nas na: RSS Facebook Twitter YouTube Zarządzany przez Urząd Publikacji UE W górę