Objetivo The development of denser circuit integration requires new metallisation schemes so that low bulk and contact resistances are guaranteed. The new contact materials to be developed should show good temperature stability, electromigration resistance, selectivity versus SiO2, and should avoid silicon consumption of the shallow contact to the source/drain region. An adequate in situ wafer-cleaning facility should provide a good interface between layers. In the SEDESES project it was proposed to develop a process and related equipment for the selective deposition of refractory silicides and epitaxial silicon.By common agreement between the consortium and the Commission, the project was discontinued in June 1991, six months after its launch. Ámbito científico natural scienceschemical sciencesinorganic chemistrymetalloids Programa(s) FP2-ESPRIT 2 - European strategic programme (EEC) for research and development in information technologies (ESPRIT), 1987-1992 Tema(s) Data not available Convocatoria de propuestas Data not available Régimen de financiación Data not available Coordinador ADVANCED SEMICONDUCTOR MATERIALS INTERNATIONAL Aportación de la UE Sin datos Dirección REMBRANDTLAAN, 2A 3723 BJ BILTHOVEN Países Bajos Ver en el mapa Coste total Sin datos Participantes (5) Ordenar alfabéticamente Ordenar por aportación de la UE Ampliar todo Contraer todo ALCATEL CIT SA Francia Aportación de la UE Sin datos Dirección 55 RUE EDGAR QUINET 92240 MALAKOFF Ver en el mapa Coste total Sin datos Centre National d'Études des Télécommunications (CNET) Francia Aportación de la UE Sin datos Dirección 98 chemin du Vieux Chêne 38243 Meyland Ver en el mapa Coste total Sin datos Interuniversitair Mikroelektronica Centrum Bélgica Aportación de la UE Sin datos Dirección Kapeldreef 75 3030 Heverlee Ver en el mapa Coste total Sin datos NATIONAL MICROELECTRONICS RESEARCH CENTRE Irlanda Aportación de la UE Sin datos Dirección PROSPECT ROW CORK Ver en el mapa Coste total Sin datos Siemens AG Alemania Aportación de la UE Sin datos Dirección Otto-Hahn-Ring 6 81739 München Ver en el mapa Coste total Sin datos
