Objectif After 12 months of work, the objective of JEEPS remains to investigate a wide range of factors concerning the design, specification, manufacture and use of phase-shift masks (PSMs) and their application to the production of 0.35 micron feature sizes using i-line lithography.Simulation of 4 phase shift mask (PSM) types (rim, alternating, outrigger, chromeless) has been done. Experimental PSMs of these types have been manufactured and tested for the polysilicon (poly-Si) and contact layers. Rim type and alternated (400 included in the project) PSMs have been selected for further investigations, chromeless PSMs have been dropped, as they produce only marginal performance benefits over conventional masks. Intensive work has been carried out in the field of mask qualification and repair.The main deliverables planned are: - a process for PSM manufacturing, now focussed on attenuated and rim-type PSMs, - application recipes for the use of PSMs - masks and application wafers, with appropriate specifications - a industrial manufacturing concept for PSMs. As part of the development of a manufacturing concept, costs and turnaround time of i-line lithography in combination with PSMs will be estimated in comparison with DUV lithography without PSM techniques. Exploitation of the results will be ensured by establishing sample manufacturing capabilities for phase shift in several places in order to supply PSM technology to industry and research institutes. Programme(s) FP3-ESPRIT 3 - Specific research and technological development programme (EEC) in the field of information technologies, 1990-1994 Thème(s) Data not available Appel à propositions Data not available Régime de financement Data not available Coordinateur Compugraphics International Ltd Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Eastfield Industrial Estate KY7 4NT Glenrothes Royaume-Uni Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Participants (9) Trier par ordre alphabétique Trier par contribution de l’UE Tout développer Tout réduire CCLRC Rutherford Appleton Laboratory (RAL) Royaume-Uni Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Chilton OX11 0QX Didcot Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Centre National d'Études des Télécommunications (CNET) France Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse 38-40 rue du Général Leclerc 92131 Issy-les-Moulineaux Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Commissariat à l'Energie Atomique (CEA) France Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Centre d'Études de Grenoble 17 avenue des Martyrs 38041 Grenoble Voir sur la carte Coût total Aucune donnée DUPONT PHOTOMASK GMBH & CO KG Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse BOTELKAMP 29 22529 HAMBURG Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der Angewandten Forschung eV (FhG) Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Paul-Gerhardt-Allee 42 81245 München Voir sur la carte Coût total Aucune donnée INTERUNIVERSITAIR MIKROELEKTRONICA CENTRUM Belgique Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse KAPELDREEF, 75 3030 HEVERLEE Voir sur la carte Coût total Aucune donnée NEDERLANDSE PHILIPS BEDRIJVEN BV Pays-Bas Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse PROF. HOLSTLAAN, 4 5656 AA EINDHOVEN Voir sur la carte Coût total Aucune donnée PHILIPS SEMICONDUCTORS Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse BURCHARDSTRAßE 19 20095 HAMBURG Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Thomson Microelectronics Srl (SGS) Italie Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Via Carlo Olivetti 20041 Agrate Brianza Milano Voir sur la carte Coût total Aucune donnée
