Objectif The objectives of BOLD are to build and test two lithographic systems that will enable the evaluation of high numerical aperture (NA) optics and scan-and-repeat technology with a resolution in the sub-0.3 micron range. A prototype wafer stage optical lithography system with high accuracy and high speed based on novel principles has been realized. A new motor concept has been introduced and is being evaluated, as are new alignment and interferometry systems. The basic design and technology for the step and scan lens have been established, and the effects of a finite laser bandwidth on the lens performance have been calculated. Market requirements for 0.25 micron scanning systems have been considered, and based on this a system outline for a production step and scan system has been drawn up. Simulation is being used to study the effects of the source and illumination characteristics on the overall performance. User inputs are continuously refined and updated, and are considered in the overall planning.Projection systems with very high NA at short wavelengths will be designed and a prototype lens system built. The possibilities of scan-and-repeat and other photocomposition methods will be investigated, with the emphasis placed on accommodating large chip sizes for future ASIC devices. The most critical subsystems (high-precision synchronised wafer and reticle stages) will be built and tested in a laboratory system. System requirements will be provided by a user group, and the resolution and overlay of the new techniques evaluated. Champ scientifique natural sciencesphysical sciencesopticslaser physics Programme(s) FP3-ESPRIT 3 - Specific research and technological development programme (EEC) in the field of information technologies, 1990-1994 Thème(s) Data not available Appel à propositions Data not available Régime de financement Data not available Coordinateur ASM LITHOGRAPHY Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse MEIERIJWEG 15, 8805 5503 HN VELDHOVEN Pays-Bas Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Participants (6) Trier par ordre alphabétique Trier par contribution de l’UE Tout développer Tout réduire CARL ZEISS GMBH Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse CARL-ZEISS-STRAßE 4-54 73447 OBERKOCHEN Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Centre National d'Études des Télécommunications (CNET) France Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse 38-40 rue du Général Leclerc 92131 Issy-les-Moulineaux Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Commissariat à l'Energie Atomique (CEA) France Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Centre d'Études de Grenoble 17 avenue des Martyrs 38041 Grenoble Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderungder Angewandten Forschung e.V. Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Dillenburgerstrasse 14199 Berlin Voir sur la carte Coût total Aucune donnée IBM Deutschland GmbH Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Pascalstraße 100 70569 Stuttgart Voir sur la carte Coût total Aucune donnée INTERUNIVERSITAIR MIKROELEKTRONICA CENTRUM Belgique Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse KAPELDREEF, 75 3030 HEVERLEE Voir sur la carte Coût total Aucune donnée