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CHEMICAL PHYSICS OF THIN FILM DEPOSITION PROCESSES FOR MICRO- AND NANO-TECHNOLOGIES
ID: HPCF-CT-2001-00126-01
Data di inizio: 2001-09-03, Termine: 2001-09-15
Over the few past years, electron, ion and laser beam-induced as well as plasma-based chemical and physical vapor deposition techniques experienced a very rapid growth and now are emerging from laboratories. These techniques appropriate to solve a given surface engineering pro...
Programme: FP5-HUMAN POTENTIAL
Record Number: 59710
Last updated on: 2002-11-05
List retrieved on: 2018-05-27