IMPROVED TARGET MATERIAL FOR HIGH-YIELD SPUTTERING DEPOSITION OF HIGH QUALITY ITO FILMS WITH LOW RESISTIVITY AND HIGH OPTICAL TRANSMISSION

Informazioni relative al progetto

ID dell’accordo di sovvenzione: BRE20298

Progetto chiuso

Data di avvio 1 Gennaio 1993

Data di completamento 31 Dicembre 1995

Finanziato da

• Specific programme (EEC) of research and technological development in the field of industrial and materials technologies, 1990-1994

Costo totale € 0,00

Contributo UE € 1 100 000,00

Coordinato da

Métaleurop Recherche SA
France

Altri documenti

• IMPROVED TARGET MATERIAL FOR HIGH-YIELD SPUTTERING DEPOSITION OF HIGH QUALITY ITO FILMS WITH LOW RESISTIVITY AND HIGH OPTICAL TRANSMISSION