Objectif
Future IC manufacturing processes will demand significant improvements in the purity of the starting material and better control of individual process steps. Typical metal concentrations in starting bulk Si material are currently of the order of 1E11 to 1E12 cm{-3}. Improvements of one to two orders of magnitude are required for advanced IC devices. In order to meet this technological goal, new analytical strategies need to be developed. The overall objective of DIASYSCON is to develop an easy-to-use advanced diagnostic system for ultra low metal contamination control, based on injection scanning life-time imaging combined with a new generation of monitor wafers. This system will be applied in case studies from wafer-manufacturing, IC production and process development, and is expected to lead to significant improvements in IC yields.
Rapid advances have been made in the application of injection scanning techniques to problems of metal contamination of semiconductor material in a wide variety of technologically relevant situations. Working with a prototype system, methods for the detection, discrimination and imaging of iron boride, iron-1 and oxygen precipitates in concentrations below 1010 cm{3} have been worked out. Highly sensitive CZ silicon wafers have been produced with minority carrier diffusion lengths of greater than 2 mm. In addition to this, an effective increase in system sensitivity of 35 times has been demonstrated. Special monitor wafers for the detection of low levels of copper and nickel have been developed. 'Precipitation hard' CZ silicon wafers were demonstrated to be highly effective in the investigation of contamination in nearly arbitrary process conditions, including extremely long, high temperature processes. An important spin off has led to processes for the production of a precision controlled precipitation wafer.
A four-step approach has been adopted:
- development of injection-level lifetime analysis and imaging techniques
- their hardware and software development
- minority carrier lifetime improvements in silicon wafer manufacturing and the production of lifetime test monitor wafers
- application case studies focussed on contamination control and process improvement in IC fabrication lines.
Champ scientifique (EuroSciVoc)
CORDIS classe les projets avec EuroSciVoc, une taxonomie multilingue des domaines scientifiques, grâce à un processus semi-automatique basé sur des techniques TLN. Voir: Le vocabulaire scientifique européen.
CORDIS classe les projets avec EuroSciVoc, une taxonomie multilingue des domaines scientifiques, grâce à un processus semi-automatique basé sur des techniques TLN. Voir: Le vocabulaire scientifique européen.
- ingénierie et technologie génie mécanique ingénierie de fabrication
- sciences naturelles sciences chimiques chimie inorganique métal de transition
- sciences naturelles informatique et science de l'information logiciel développement logiciel
- sciences sociales sociologie problèmes de société inégalité sociale
- sciences naturelles sciences chimiques chimie inorganique métalloïde
Vous devez vous identifier ou vous inscrire pour utiliser cette fonction
Programme(s)
Programmes de financement pluriannuels qui définissent les priorités de l’UE en matière de recherche et d’innovation.
Programmes de financement pluriannuels qui définissent les priorités de l’UE en matière de recherche et d’innovation.
Thème(s)
Les appels à propositions sont divisés en thèmes. Un thème définit un sujet ou un domaine spécifique dans le cadre duquel les candidats peuvent soumettre des propositions. La description d’un thème comprend sa portée spécifique et l’impact attendu du projet financé.
Données non disponibles
Les appels à propositions sont divisés en thèmes. Un thème définit un sujet ou un domaine spécifique dans le cadre duquel les candidats peuvent soumettre des propositions. La description d’un thème comprend sa portée spécifique et l’impact attendu du projet financé.
Appel à propositions
Procédure par laquelle les candidats sont invités à soumettre des propositions de projet en vue de bénéficier d’un financement de l’UE.
Données non disponibles
Procédure par laquelle les candidats sont invités à soumettre des propositions de projet en vue de bénéficier d’un financement de l’UE.
Régime de financement
Régime de financement (ou «type d’action») à l’intérieur d’un programme présentant des caractéristiques communes. Le régime de financement précise le champ d’application de ce qui est financé, le taux de remboursement, les critères d’évaluation spécifiques pour bénéficier du financement et les formes simplifiées de couverture des coûts, telles que les montants forfaitaires.
Régime de financement (ou «type d’action») à l’intérieur d’un programme présentant des caractéristiques communes. Le régime de financement précise le champ d’application de ce qui est financé, le taux de remboursement, les critères d’évaluation spécifiques pour bénéficier du financement et les formes simplifiées de couverture des coûts, telles que les montants forfaitaires.
Données non disponibles
Coordinateur
28100 Novara
Italie
Les coûts totaux encourus par l’organisation concernée pour participer au projet, y compris les coûts directs et indirects. Ce montant est un sous-ensemble du budget global du projet.