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FABrication of 3D metasurfaces to enable the next generation of high efficiency optical products

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Los enlaces a los documentos y las publicaciones de los proyectos del Séptimo Programa Marco, así como los enlaces a algunos tipos de resultados específicos, como conjuntos de datos y «software», se obtienen dinámicamente de OpenAIRE .

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FABulous communications kit (se abrirá en una nueva ventana)

FABulous Communications Kit: Including plan for dissemination and communication activities and core dissemination and communications materials (flyers, infographics, videos).

Publicaciones

Advances in modeling and optimization for two-photon lithography (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Valeriia Sedova, Florie Ogor, Joёl Rovera, Odysseas Tsilipakos, Lisa Lemberg, Kevin Heggarty, Andreas Erdmann
Publicado en: Computational Optics 2024, 2024, ISSN 1996-756X
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.3017407

Physics-based differentiable simulation framework for power optimization in parallel two-photon polymerization (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Valeriia Sedova, Yuan Yu, Thomas Le Deun, Joёl Rovera, Jonas Wiedenmann, Kevin Heggarty, Andreas Erdmann
Publicado en: 40th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2025), 2025
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.3062740

Modeling of two-photon lithography including oxygen diffusion using a generalized compact model (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Yuan Yu, Valeriia Sedova, Christian Schwemmer, Jonas Wiedenmann, Andreas Erdmann
Publicado en: 40th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2025), 2025
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.3060161

Digital modelling of a massively parallelized multiphoton polymerization plot process (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Joël Rovera, Valeriia Sedova, Florie Ogor, Andreas Erdmann, Kevin Heggarty
Publicado en: Computational Optics 2024, 2024, ISSN 1996-756X
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.3017550

Modeling and simulation of mechanical effects in two-photon lithography (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Alap Mundayoor, Valeriia Sedova, Joël Rovera, Thomas Le Deun, Andreas Erdmann
Publicado en: 40th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2025), 2025
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.3058688

Simulation methods for large-area meta-surfaces: comparison local periodic, overlapping domains, and full wave calculations (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Bavo Robben, Lieven Penninck
Publicado en: High Contrast Metastructures XIII, 2024, ISSN 1996-756X
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.3001554

Modelling and compensating proximity effects in massively parallelized multiphoton photoplotter (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Florie Ogor, Thomas Le Deun, Valeriia Sedova, Joël Rovera, Andreas Erdmann, Manuel Flury, Kevin Heggarty
Publicado en: 3D Printed Optics and Additive Photonic Manufacturing IV, 2024, ISSN 1996-756X
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.3016932

Modeling and Simulation of a Massively Parallelized Multiphoton Polymerization 3D Microfabrication Process (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Florie Ogor, Thomas Le Deun, Emma Van Elslande, Azeddine Tellal, Akos Banyasz, Manuel Flury, Kevin Heggarty
Publicado en: Physica Status Solidi A Applications and Materials Science, Edición 2300486, 2023, ISSN 1862-6300
Editor: Wiley - V C H Verlag GmbbH & Co.
DOI: 10.5281/zenodo.13805601

Advances in modeling and optimization for two-photon lithography (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Valeriia Sedova, Florie Ogor, Joël Rovera, Odysseas Tsilipakos, Jonas Wiedenmann, Kevin Heggarty, Andreas Erdmann
Publicado en: Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology, Edición 24, 2025, ISSN 2708-8340
Editor: SPIE-Intl Soc Optical Eng
DOI: 10.1117/1.JMM.24.2.023001

Strong and Broadband Pure Optical Activity in 3D Printed THz Chiral Metamaterials (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Katsantonis, Ioannis; Manousidaki, Maria; Koulouklidis, Anastasios D.; Daskalaki, Christina; Spanos, Ioannis; Kerantzopoulos, Constantinos; Tasolamprou, Anna C.; Soukoulis, Costas M.; Economou, Eleftherios N.; Tzortzakis, Stelios; Farsari, Maria; Kafesaki, Maria
Publicado en: Advanced Optical Materials, Edición 11, 2023, ISSN 2195-1071
Editor: Wiley-VCH GmbH
DOI: 10.1002/adom.202300238

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