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InP Membrane on Silicon technology for a broad range of applications

Descripción del proyecto

Las aplicaciones de la tecnología de membranas sobre silicio

Las aplicaciones de la tecnología fotónica son ubicuas, pero aún es necesario mejorar su eficacia energética, aumentar su precisión y lograr un desempeño más adecuado. La integración fotónica podría ser la respuesta, pero las comunicaciones sin conectores y los circuitos sensores han de contar con tecnologías a escala de chip, aún inéditas en los sistemas de fibra óptica. La respuesta es la tecnología IMOS (membranas de fosfuro de indio sobre silicio), que permite combinar una amplia gama de procesos como la nanofotónica y la integración fotónica. El proyecto financiado con fondos europeos IMOS4ALL aprovechará los componentes fundamentales de alto rendimiento más inclusivos para generar una plataforma de acceso abierto para diseñadores de circuitos.

Objetivo

Photonic technologies are key enablers for high-speed, on-demand communications, precision sensors, imaging and metrology. Industry roadmapping initiatives are now showing a clear and pressing need for miniaturising photonics solutions across market segments with sustained improvements in energy-efficiency, precision and performance. Photonic integration can meet these challenges, and has been convincingly demonstrated in fiber optic systems, but there is an absence of chip scale solutions for connectorless communications and sensor circuits requiring optical wireless connectivity. The necessary combination of high-performance optoelectronics, photonics integration, and chip-scale beam forming is not available to the industry.

IMOS – Indium Phosphide membrane on Silicon enables the combination of nanophotonics, photonic integration, lasers, amplifiers and the highest efficiency electro-optic processes. Integrated nanophotonics offers a route to exquisite optical beam control within the chip, and removes the need for fiber optic connectivity, micro-mechanical-assemblies and off-chip optics. The ERC project NoLimits has pioneered a nanophotonic platform which additionally integrates lasers, semiconductor optical amplifiers, high performance detectors and low-loss, fabrication-tolerant surface grating technologies. The IMOS4ALL program will implement the most comprehensive set of active and nanophotonic building blocks as created in the ERC project NoLimits and make them available within one wafer scale process and valid the platform with industry-inspired circuits. The free placement of standard high-performance building blocks enables the project to deliver an open-access platform where designers configure circuits to enable new and unanticipated circuits. The platform approach also enables the integration of a pipeline of future high-performance building blocks for future technology nodes.

Institución de acogida

TECHNISCHE UNIVERSITEIT EINDHOVEN
Aportación neta de la UEn
€ 150 000,00
Dirección
GROENE LOPER 3
5612 AE Eindhoven
Países Bajos

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Región
Zuid-Nederland Noord-Brabant Zuidoost-Noord-Brabant
Tipo de actividad
Higher or Secondary Education Establishments
Enlaces
Coste total
Sin datos

Beneficiarios (1)