Producción rentable de tecnología fotónica sobre silicio en beneficio de la industria europea
Los socios del proyecto financiado con fondos de la Unión Europea PLAT4M han desarrollado técnicas nuevas con las que producir en serie tecnología fotónica sobre silicio que puede emplearse para construir circuitos CMOS (semiconductor complementario de óxido de metal). La idea es emplear silicio, grabado con precisión submicrométrica, como medio óptico en estos microcomponentes. Los circuitos CMOS presentan una elevada prevención de interferencias y un consumo de energía estática bajo y por ello pueden ser muy útiles para fabricantes tanto de aplicaciones de telecomunicaciones como de microelectrónica. De hecho, la popularización del silicio ya ha introducido la microelectrónica CMOS en aplicaciones muy extendidas como teléfonos inteligentes, sensores y otros dispositivos. El proyecto PLAT4M, puesto en marcha en octubre de 2012, apuesta por la creación de medios de producción rentables de tecnología fotónica sobre silicio para propiciar una revolución similar en el sector de la fotónica. La fotónica sobre silicio se considera un medio para lograr interconexiones ópticas capaces de transferir datos con mayor rapidez entre microchips y en los propios microchips, razón por la cual muchos fabricantes de electrónica y grupos científicos académicos han investigado activamente esta propuesta durante los últimos años. No obstante, la mayor parte de la investigación en materia de fotónica sobre silicio se ha dedicado hasta ahora a los componentes fundamentales en lugar de a la fabricación de circuitos fotónicos integrados completos. Para ampliar sus mercados, el equipo de PLAT4M se percató de que era necesario demostrar la rentabilidad del desarrollo y la fabricación de circuitos fotónicos integrados completos, un aspecto —según sus responsables— crucial y capaz de impulsar el potencial comercial de la fotónica sobre silicio. En Europa ya existe una base excelente —en forma de experiencia en fotónica sobre silicio e instalaciones de I+D dedicadas a la fotónica— y el proyecto PLAT4M se sirvió de ella para reunir a institutos de I+D punteros, empresas de CMOS, agentes industriales clave y usuarios finales de distintos campos de aplicación. En el proyecto, de cuatro años de duración, ya se ha logrado la modernización de varias plataformas de fotónica sobre silicio preexistentes. En concreto, los flujos de diseño y procesamiento se racionalizaron y consolidaron en función de los requisitos industriales de solidez de diseño, variabilidad de los procesos y limitaciones de integración. En el proyecto se plantean como objetivo crear una cadena de suministro europea para la fotónica sobre silicio que abarque varios ámbitos de aplicación y permita la instalación de plataformas de integración industrial para adaptarse a distintos volúmenes de fabricación. PLAT4M finalizará a finales de septiembre de 2016, pero hasta entonces seguirá trabajando en el desarrollo de procesos diseñados para apoyar la producción en serie y validar cada plataforma mediante ensayos orientados a aplicaciones concretas. Estos ensayos se llevarán a cabo de tal modo que representen a una amplia gama de campos de aplicación, desde las telecomunicaciones a la vibrometría, pasando por la detección de luz y gas (los vibrómetros son instrumentos empleados para tomar, sin contacto, imágenes y mediciones rápidas de vibraciones). Los resultados del proyecto también podrían dar lugar a aplicaciones importantes para los investigadores dedicados a la física. Los responsables del proyecto prepararán un plan de actuación sobre la evolución del rendimiento en el que se evaluará también la escalabilidad de la producción. De este modo confían en elevar la investigación actual en materia de fotónica sobre silicio a un nivel que permita realizar una transición hacia el sector industrial y beneficie a múltiples usuarios finales tanto comerciales como académicos. Para más información, consulte: el sitio web del proyecto PLAT4M
Países
Francia
