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NANODEPOSITION OF ACTIVE ORDERED STRUCTURES BY COLD ATOMS TECHNOLOGIES

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Gigaventajas para las nanoestructuras

La litografía es el arte de transferir un patrón a un sustrato. La litografía óptica, a pesar de haber impulsado la industria de los semiconductores permitiendo la fabricación de dispositivos electrónicos diminutos, no puede transferir patrones de menos de 100nm. La litografía atómica se considera una técnica revolucionaria para fabricar nanoestructuras de menos de diez nanometros para aplicaciones en la tecnología de la información.

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La litografía atómica se basa en un método físico en el que las trayectorias de los átomos de un haz atómico se manipulan mediante haces de láser que interfieren. De este modo, la litografía atómica se basa en un haz de átomos con una máscara de luz que facilita la fabricación de estructuras de escala nanométrica. El proyecto NANOCOLD trató de desarrollar nanotecnologías basadas en la deposición de átomos proyectados por láser, con el fin de fabricar elementos básicos correspondientes a las aplicaciones electrónicas, optoelectrónicas y tecnológicas. En el marco del proyecto NANOCOLD, las nanoestructuras se cultivaron en una superficie mediante la deposición directa de átomos de cesio frío. La refrigeración de un átomo se refiere a la fase en la que el átomo se acerca al haz y dispersa muchos más fotones que un átomo que se aleja del haz. Esto puede ocurrir ajustando la frecuencia del haz para que el efecto neto sea reducir la velocidad del átomo y, por tanto, enfriarlo. El haz atómico frío del aparato se produce constantemente fuera de la trampa magneto-óptica piramidal (MOT, por sus siglas en ingles) para los átomos de cesio. La MOT es una configuración específica de espejos montados en forma de pirámide hueca, con una pequeña apertura en el ápice, en la que se confinan los átomos enfriados para reducir el volumen. Se llevó a cabo la deposición directa de los átomos de cesio enfriados en una superficie, junto con el diagnóstico microscópico in-situ utilizando el microscopio de efecto túnel en Ultra Alto Vacío (UHV). Los sustratos de grafito pirolítico altamente orientado (HOPG, por sus siglas en inglés), una forma relativamente nueva de obtener carbono de gran pureza, se usaron para la deposición directa de los átomos de cesio enfriados en presencia de la máscara óptica de ondas. Sin embargo, ha sido complicado observar un conjunto regular de nanolíneas de cesio debido a las dimensiones relativamente pequeñas de las regiones planas del sustrato. Por tanto, los esfuerzos se han concentrado en la investigación de líneas simples y aisladas, y se han obtenido buenos resultados. El cesio es muy reactivo en el aire y su manipulación, deposición e investigación es muy exigente. Los resultados del proyecto enriquecen los conocimientos y la correspondiente bibliografía de difusión específica utilizados y los fenómenos de crecimiento que se producen en el sistema de implementación. Es necesario continuar trabajando para aclarar la función de los parámetros del proceso y de las características del sustrato a la hora de determinar la forma de los depósitos.

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