Descripción del proyecto
El método de los carbenos N-heterocíclicos para optimizar las superficies de silicio
La nanoelectrónica avanzada usa el silicio como semiconductor en dispositivos como los microchips. La investigación emplea técnicas como la deposición de capas atómicas para optimizar las superficies de silicio y mejorar su resistencia y conductividad eléctrica. Los investigadores han desarrollado recientemente un método para unir derivados de los carbenos N-heterocíclicos al silicio dopado con boro. Con el apoyo de las acciones Marie Skłodowska-Curie, el proyecto SMARTFACE aplicará carbenos N-heterocíclicos (NHC) a superficies de silicio, como Si(100). El proyecto pretende desarrollar una estrategia de inmovilización del NHC, explorar la relación entre la estructura del NHC y la cobertura de la superficie, evaluar el impacto del recubrimiento en las propiedades del material e investigar de qué manera influyen las modificaciones de la superficie en las características del silicio.
Objetivo
The significance of cutting-edge nanoelectronics is inherently tied to the utilization and integration of silicon. The material is embedded as a semiconductor in a multitude of devices, such as nano- and microchips for computing. Given its paramount importance for the high-tech industry, intense research focuses on manipulating and optimising silicon surfaces. Silicon coating efforts aim to increase its resistance against harsh conditions (temperature, high electron potential, UV light, etc.), steer its electric conductivity, or covalently attach (bio)molecules for specific applications (such as biosensing). Depending on the objective, strategies for surface engineering include techniques such as atomic layer deposition or silanization. A fundamentally novel approach to functionalize silicon surfaces has recently been developed by the team of Prof. Frank Glorius from the University of Mnster, who described a strategy to immobilize derivatives of N-heterocyclic carbenes on a boron-doped silicon substrate. Transposing this concept to industrially applied silicon surfaces such as Si(100), SMARTFACE aims for the following research objectives: Develop a general strategy for NHC immobilization on silicon, study the connection of the molecular NHC structure and surface coverage, understand the impact of the coating on the material, and, finally, explore the effect of the surface modification on silicons relevant properties. The Glorius group has a unique knowledge base in the field of NHCs and surface engineering and simultaneously possesses state-of-the-art hardware to analyze fabricated materials. Given its potentially transformative impact on the field of silicon surface engineering, SMARTFACE perfectly falls within the scope of the HE Work Programme, specifically in the pursuit of developing and mastering the digital and key enabling technologies of the future.
Ámbito científico (EuroSciVoc)
CORDIS clasifica los proyectos con EuroSciVoc, una taxonomía plurilingüe de ámbitos científicos, mediante un proceso semiautomático basado en técnicas de procesamiento del lenguaje natural.
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- ciencias naturalesciencias químicasquímica inorgánicametaloides
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Palabras clave
Programa(s)
- HORIZON.1.2 - Marie Skłodowska-Curie Actions (MSCA) Main Programme
Régimen de financiación
HORIZON-TMA-MSCA-PF-EF - HORIZON TMA MSCA Postdoctoral Fellowships - European FellowshipsCoordinador
48149 MUENSTER
Alemania