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CORDIS - Resultados de investigaciones de la UE
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Contenido archivado el 2024-06-18

Material Development for Double exposure and Double patterning

Descripción del proyecto


Next-Generation Nanoelectronics Components and Electronics Integration

Double patterning lithography has been identified as one of the most promising solutions for the 32nm node patterning. This technique refers to a two step process where a first pattern is exposed, developed and sometimes etched and a second pattern is also exposed, developed and transferred on the top of the first one.

For the moment, several issues still need to be addressed for enabling the Double Patterning process in production such as layout decomposition, topography at wafer level, overlay control, Line Edge Roughness and process throughput. For example, the conventional double patterning process requires two different exposure and etching steps which cumbersomely reduce productivity and increase the cost of ownership.

In that perspective, MD3 aims to suppress the additional etching or exposure steps by developing new strategies for double pattering or double exposure. Three novel approaches will be evaluated: dual layer approach, pattern doubling strategy and double exposure technique. Each strategy will be compared to a reference double patterning process in terms of technical performances as well as cost of ownership. This requires some important material development which must be supported by appropriate simulations and patterning evaluation. Moreover, adapted integration schemes must be developed to validate the possibility of a transfer to the industry.

In order to reach its objectives, MD3 will gather a multidisciplinary team of 7 partners with specific skills and strong background in photoresist development, lithography simulation, lithography process development and characterization and etching process development. To have double patterning or double exposure process ready on time for the 32nm production in 2010, this project is planned over 2 years with a total budget of 4.6ME.

Ámbito científico (EuroSciVoc)

CORDIS clasifica los proyectos con EuroSciVoc, una taxonomía plurilingüe de ámbitos científicos, mediante un proceso semiautomático basado en técnicas de procesamiento del lenguaje natural. Véas: El vocabulario científico europeo..

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Programa(s)

Programas de financiación plurianuales que definen las prioridades de la UE en materia de investigación e innovación.

Tema(s)

Las convocatorias de propuestas se dividen en temas. Un tema define una materia o área específica para la que los solicitantes pueden presentar propuestas. La descripción de un tema comprende su alcance específico y la repercusión prevista del proyecto financiado.

Convocatoria de propuestas

Procedimiento para invitar a los solicitantes a presentar propuestas de proyectos con el objetivo de obtener financiación de la UE.

FP7-ICT-2007-1
Consulte otros proyectos de esta convocatoria

Régimen de financiación

Régimen de financiación (o «Tipo de acción») dentro de un programa con características comunes. Especifica: el alcance de lo que se financia; el porcentaje de reembolso; los criterios específicos de evaluación para optar a la financiación; y el uso de formas simplificadas de costes como los importes a tanto alzado.

CP - Collaborative project (generic)

Coordinador

COMMISSARIAT A L ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES
Aportación de la UE
€ 1 060 958,00
Coste total

Los costes totales en que ha incurrido esta organización para participar en el proyecto, incluidos los costes directos e indirectos. Este importe es un subconjunto del presupuesto total del proyecto.

Sin datos

Participantes (6)

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