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CORDIS - Résultats de la recherche de l’UE
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Contenu archivé le 2024-06-18

Material Development for Double exposure and Double patterning

Description du projet


Next-Generation Nanoelectronics Components and Electronics Integration

Double patterning lithography has been identified as one of the most promising solutions for the 32nm node patterning. This technique refers to a two step process where a first pattern is exposed, developed and sometimes etched and a second pattern is also exposed, developed and transferred on the top of the first one.

For the moment, several issues still need to be addressed for enabling the Double Patterning process in production such as layout decomposition, topography at wafer level, overlay control, Line Edge Roughness and process throughput. For example, the conventional double patterning process requires two different exposure and etching steps which cumbersomely reduce productivity and increase the cost of ownership.

In that perspective, MD3 aims to suppress the additional etching or exposure steps by developing new strategies for double pattering or double exposure. Three novel approaches will be evaluated: dual layer approach, pattern doubling strategy and double exposure technique. Each strategy will be compared to a reference double patterning process in terms of technical performances as well as cost of ownership. This requires some important material development which must be supported by appropriate simulations and patterning evaluation. Moreover, adapted integration schemes must be developed to validate the possibility of a transfer to the industry.

In order to reach its objectives, MD3 will gather a multidisciplinary team of 7 partners with specific skills and strong background in photoresist development, lithography simulation, lithography process development and characterization and etching process development. To have double patterning or double exposure process ready on time for the 32nm production in 2010, this project is planned over 2 years with a total budget of 4.6ME.

Champ scientifique (EuroSciVoc)

CORDIS classe les projets avec EuroSciVoc, une taxonomie multilingue des domaines scientifiques, grâce à un processus semi-automatique basé sur des techniques TLN. Voir: Le vocabulaire scientifique européen.

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Programme(s)

Programmes de financement pluriannuels qui définissent les priorités de l’UE en matière de recherche et d’innovation.

Thème(s)

Les appels à propositions sont divisés en thèmes. Un thème définit un sujet ou un domaine spécifique dans le cadre duquel les candidats peuvent soumettre des propositions. La description d’un thème comprend sa portée spécifique et l’impact attendu du projet financé.

Appel à propositions

Procédure par laquelle les candidats sont invités à soumettre des propositions de projet en vue de bénéficier d’un financement de l’UE.

FP7-ICT-2007-1
Voir d’autres projets de cet appel

Régime de financement

Régime de financement (ou «type d’action») à l’intérieur d’un programme présentant des caractéristiques communes. Le régime de financement précise le champ d’application de ce qui est financé, le taux de remboursement, les critères d’évaluation spécifiques pour bénéficier du financement et les formes simplifiées de couverture des coûts, telles que les montants forfaitaires.

CP - Collaborative project (generic)

Coordinateur

COMMISSARIAT A L ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES
Contribution de l’UE
€ 1 060 958,00
Coût total

Les coûts totaux encourus par l’organisation concernée pour participer au projet, y compris les coûts directs et indirects. Ce montant est un sous-ensemble du budget global du projet.

Aucune donnée

Participants (6)

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