Computer modelling and experimental validation of plasmas and plasma- surface interactions, for a deep insight in cryogenic etching

Información del proyecto

Cryoetch

Identificador del acuerdo de subvención: 702604

DOI 10.3030/702604

Proyecto cerrado

Fecha de la firma de la CE 14 Marzo 2016

Fecha de inicio 8 Junio 2016

Fecha de finalización 7 Junio 2018

Financiado con arreglo a

• EXCELLENT SCIENCE - Marie Skłodowska-Curie Actions

Coste total € 160 800,00

Aportación de la UE € 160 800,00

Coordinado por

UNIVERSITEIT ANTWERPEN
Belgium

Publicaciones

Peer reviewed articles (3)

Propagation of a plasma streamer in catalyst pores

Autores: Quan-Zhi Zhang, Annemie Bogaerts
Publicado en: Plasma Sources Science and Technology, Edición 27/3, 2018, Página(s) 035009, ISSN 1361-6595
Editor: IOP Publishing Ltd
DOI: 10.1088/1361-6595/aab47a

Mechanisms for plasma cryogenic etching of porous materials

Autores: Quan-Zhi Zhang, Stefan Tinck, Jean-François de Marneffe, Liping Zhang, Annemie Bogaerts
Publicado en: Applied Physics Letters, Edición 111/17, 2017, Página(s) 173104, ISSN 0003-6951
Editor: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.4999439

Importance of surface charging during plasma streamer propagation in catalyst pores

Autores: Quan-Zhi Zhang, Wei-Zong Wang, Annemie Bogaerts
Publicado en: Plasma Sources Science and Technology, Edición 27/6, 2018, Página(s) 065009, ISSN 1361-6595
Editor: IOP Publishing Ltd
DOI: 10.1088/1361-6595/aaca6d