Computer modelling and experimental validation of plasmas and plasma- surface interactions, for a deep insight in cryogenic etching

Informazioni relative al progetto

Cryoetch

ID dell’accordo di sovvenzione: 702604

DOI

10.3030/702604

Progetto chiuso

Data della firma CE 14 Marzo 2016

Data di avvio 8 Giugno 2016

Data di completamento 7 Giugno 2018

Finanziato da

• EXCELLENT SCIENCE - Marie Skłodowska-Curie Actions

Costo totale

€ 160 800,00

Contributo UE

€ 160 800,00

Coordinato da

UNIVERSITEIT ANTWERPEN
Belgium

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Pubblicazioni

Peer reviewed articles (3)

Propagation of a plasma streamer in catalyst pores

Autori: Quan-Zhi Zhang, Annemie Bogaerts
Pubblicato in: Plasma Sources Science and Technology, Numero 27/3, 2018, Pagina/e 035009, ISSN 1361-6595
Editore: IOP Publishing Ltd
DOI: 10.1088/1361-6595/aab47a

Mechanisms for plasma cryogenic etching of porous materials

Autori: Quan-Zhi Zhang, Stefan Tinck, Jean-François de Marneffe, Liping Zhang, Annemie Bogaerts
Pubblicato in: Applied Physics Letters, Numero 111/17, 2017, Pagina/e 173104, ISSN 0003-6951
Editore: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.4999439

Importance of surface charging during plasma streamer propagation in catalyst pores

Autori: Quan-Zhi Zhang, Wei-Zong Wang, Annemie Bogaerts
Pubblicato in: Plasma Sources Science and Technology, Numero 27/6, 2018, Pagina/e 065009, ISSN 1361-6595
Editore: IOP Publishing Ltd
DOI: 10.1088/1361-6595/aaca6d