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CORDIS - Résultats de la recherche de l’UE
CORDIS
Contenu archivé le 2024-04-16

IN-SITU CONTROL OF PLASMA CHEMICAL VAPOUR DEPOSITED CUBIC BORON NITRIDE FILMS

CORDIS fournit des liens vers les livrables publics et les publications des projets HORIZON.

Les liens vers les livrables et les publications des projets du 7e PC, ainsi que les liens vers certains types de résultats spécifiques tels que les jeux de données et les logiciels, sont récupérés dynamiquement sur OpenAIRE .

Résultats exploitables

This in depth research study focusses on the in situ control of plasma assisted deposition of cubic boron nitride film with the final goal to understand and model the chemistry and physical mechanisms of their generation. The research is divided into 2 parts: set up of plasma assisted chemical vapour deposition (PACVD) chambers, plasma diagnostics techniques and in situ measurements; investigation of the influence of hardware and process parameters settlings on plasma composition and cubic boron nitride (BN) properties on silicon (Si) and steel substrates.

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