Objectif Pushing 193 nm optical lithography to its limits, LICOTRENAS will provide IC makers with exposure tool performance necessary to manufacture ICs with 100nm (dense) and 70 nm (isolated) features. This project is part of a larger program to develop a high aperture 193 nm high throughput lithography tool, including stable materials, metrology, process, reticle know-how and to demonstrate its feasibility at 100 nm. The work in this specific project is divided in 2 workpackages: manufacturing metrology for materials and sub-systems, and integration of sub-systems plus evaluation of their performance at system level. Programme(s) FP5-IST - Programme for research, technological development and demonstration on a "User-friendly information society, 1998-2002" Thème(s) 1.1.2.-4.8.3 - Processes, equipment and materials Appel à propositions Data not available Régime de financement CSC - Cost-sharing contracts Coordinateur ASM LITHOGRAPHY B.V. Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse DE RUN 1110 5503 LA VELDHOVEN Pays-Bas Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Participants (5) Trier par ordre alphabétique Trier par contribution de l’UE Tout développer Tout réduire CARL ZEISS Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse 73446 OBERKOCHEN Voir sur la carte Coût total Aucune donnée HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO KG Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse QUARZSTRASSE 63450 HANAU Voir sur la carte Coût total Aucune donnée HONEYWELL SPECIALTY CHEMICALS SEELZE GMBH Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse WUNSTORFERSTRASSE 40 30926 SEELZE Voir sur la carte Coût total Aucune donnée LAMBDA PHYSIK AG Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse HANS-BOECKLER-STRASSE 12 37073 GOETTINGEN Voir sur la carte Coût total Aucune donnée SCHOTT LITHOTEC AG Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse OTTO-SCHOTT-STRASSE 13 07745 JENA Voir sur la carte Coût total Aucune donnée