Investigando los precursores del silicio
Una alternativa interesante para el silicio cristalino es el silicio amorfo que se utiliza ampliamente en dispositivos electrónicos y en la producción industrial de células fotovoltaicas. Este material se hace crecer mediante deposición de vapores químicos (CVD) de silano, en la que pequeñas agrupaciones de silicio insaturadas son productos intermedios de corta duración en fase gaseosa. Los científicos del proyecto «Stable unsaturated silicon clusters as nucleation sites in solution and the gas phase» (CASI-CVD), financiado por la UE, trabajaron para preparar derivados estables de agrupaciones de silicio insaturadas. Su objetivo era seguir estudiando sus propiedades químicas y demostrar su utilidad como precursores de CVD para la deposición de silicio amorfo. Estas agrupaciones son esenciales para determinar propiedades fundamentales del silicio, tales como bandas prohibidas ópticas y electrónicas. Mediante la utilización de enfoques novedosos de síntesis, se prepararon compuestos de agrupaciones de silicio insaturadas y estables que sirvieran de modelo. Los miembros del proyecto aprovecharon la reactividad de los compuestos para utilizarlos como puntos de nucleación en fase de solución para la expansión de las agrupaciones, generando así nuevos precursores para compuestos de agrupaciones insaturadas más grandes. Se descubrió y estudió en profundidad un modelo destacado de la fase de solución para hacer crecer agrupaciones de silicio mediante productos intermedios insaturados. Además, se obtuvieron resultados significativos relacionados con la química reactiva de las agrupaciones de silicio insaturadas más pequeñas, ciclotrisilenos. El proyecto CASI-CVD alcanzó todos los objetivos previstos. Hasta la fecha, ha dado lugar a cinco publicaciones de alto nivel.
Palabras clave
Agrupación de silicio, silicio amorfo, deposición de vapores químicos, punto de nucleación, fase gaseosa
