Étudier des précurseurs de silicium
Le silicium amorphe présente une alternative intéressante au silicium polycristallin, largement utilisé dans les dispositifs électroniques et en production de masse de cellules photovoltaïques. Ce silicium provient du dépôt de vapeur chimique de silane (CVD) dans lequel des grappes de silicium sont des intermédiaires de phase gazeuse de courte durée de vie. Les scientifiques du projet CASI-CVD («Stable unsaturated silicon clusters as nucleation sites in solution and the gas phase»), financé par l'UE, ont œuvré à la préparation de dérivés stables de grappes de silicium insaturé. Leur objectif était de poursuivre l'exploration de leurs propriétés physiques et de présenter leur utilisation en tant que précurseurs CVD pour le dépôt de silicium amorphe. Ces grappes sont critiques pour déterminer les propriétés fondamentales du silicium, telles que les bandes interdites optiques et électroniques. Grâce à de nouvelles approches synthétiques, les chercheurs ont préparé des composés de grappes de silicium insaturé stable. Les membres du projet ont exploité la réactivité des composants pour les utiliser entant que sites de nucléation à phase de solution générant ainsi de nouveaux précurseurs pour des composants de grappes insaturées plus volumineux. Ils ont découvert et étudié en profondeur un modèle exemplaire de phase de solution pour les grappes de silicium en croissance par des intermédiaires insaturés. Ils ont également obtenu des résultats importants sur la réaction chimique des grappes plus petites de silicium insaturé, les cyclotrisilènes. Le projet CASI-CVD a atteint la majorité de ses objectifs. Ils ont produit, à ce jour, cinq publications de haut niveau.
Mots‑clés
Grappe de silicium, silicium amorphe, dépôt de vapeur chimique, site nucléaire, phase gazeuse
