Ricerca sui precursori del silicio
Una interessante alternativa al silicio cristallino è il silicio amorfo che è ampiamente usato nei dispositivi elettronici e nella produzione di celle fotovoltaiche di massa. È cresciuto mediante la deposizione chimica dal vapore (CVD) del silano, in cui i piccoli cluster di silicio insaturi sono elementi intermedi nella fase gassosa di breve durata. Gli scienziati del progetto CASI-CVD ("Stable unsaturated silicon clusters as nucleation sites in solution and the gas phase"), finanziato dall'UE, hanno lavorato per preparare derivati stabili dei cluster di silicio insaturi. Il loro obiettivo consisteva nell'esplorare ulteriormente la loro chimica e dimostrare il loro uso come precursori della deposizione chimica dal vapore per la deposizione di silicio amorfo. Questi cluster sono fondamentali nel determinare le proprietà fondamentali del silicio, come ad esempio band-gap ottici ed elettronici. Utilizzando approcci sintetici nuovi, sono stati preparati composti di cluster di silicio insaturi con modello stabile. I componenti del progetto hanno sfruttato la reattività dei composti per usarli come siti di nucleazione in fase di soluzione per l'espansione dei cluster, generando così nuovi precursori per grandi composti di cluster insaturi. È stato scoperto e studiato approfonditamente un modello straordinario in fase di soluzione per la coltivazione di cluster di silicio attraverso elementi intermedi insaturi. Inoltre, sono stati ottenuti risultati significativi relativi alla chimica di reazione dei cluster più piccoli di silicio insaturi, i ciclotrisileni. CASI-CVD ha raggiunto la totalità dei suoi obiettivi pianificati. Ad oggi, sono state prodotte cinque pubblicazioni di alto profilo.
