Détection biomécanique de masse avancée
Grâce à des procédés et techniques utilisant les nanotechnologies les plus récentes, le projet NANOMASS II a permis d'exploiter des circuits CMOS (semi-conducteur métal oxyde complémentaire) pour la création de capteurs de masse mécaniques. Ces nouveaux capteurs sont constitués d'un ensemble de cantilevers en silicium à l'échelle nanométrique et peuvent être utilisés dans des applications environnementales ou biochimiques. Des techniques de nanolithographie innovantes et de nouveaux substrats SOI (pour silicon-on-insulator, ou silicium sur isolant) ont servi à la fabrication des cantilevers. La nanolithographie par microscopie laser ou à force atomique (AFM pour atomic force or laser microscopy) a permis d'optimiser le processus. D'autre part, on a eu recours à la lithographie à faisceau d'électrons et à la lithographie à nano-impression pour évaluer la diminution des dimensions et l'augmentation de rendement. L'introduction de substrats SOI dans la fabrication des semi-conducteurs en remplacement des substrats au silicium pur visait à améliorer les performances et à réduire les dimensions du cantilever. Des démonstrations de nanocantilevers en Al (aluminium) ultrafins ont été effectuées et caractérisées pour les applications de détection de masse. La fabrication a comporté une phase de lithographie par ultraviolets négatifs et la caractérisation a eu lieu à l'aide d'un microscope électronique à balayage. Le processus de fabrication est compatible CMOS et bon marché. Il permet un contrôle intégral de l'épaisseur du cantilever à l'échelle nanométrique. Comparés aux cantilevers à cristaux de silicium simples, les cantilevers en Al présentent une sensibilité de masse élevée et peuvent avoir des applications utiles dans le domaine de la détection de masse. Pour plus d'informations sur le projet, consulter: http://einstein.uab.es/_c_nanomass/
